个人简介
研究员，1975年毕业于北京工业大学机械系。1975~1985先后在北京工业大学材料学院显微分析中心和固体微结构与性能研究所工作。1985~1987在德国Muenster大学物理所从事扫描电子显微学及电子探针X-射线显微分析。2000年在德国Wuppertal大学电子工程所从事微电子和光电子器件的扫描热成像和声成像研究。
研究领域
扫描电子显微学、电子显微分析技术和功能开发，包括in-situSEM/ESEM，电子背散射衍射(EBSD)及阴极荧光(CL)技术，成像衬度及机理，荷电补偿技术等。主要涉及半导体结构、微电子和光电子器件，纳米及复合材料等。
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1. Y.Ji, L.Wang, Y.Q.Zhang, B.Wei, J.H.Wang, Y.L.Cheng, H.L.Suo, Distinguishing crystallographicmisorientations of lanthanum zirconate epilayers on nickel substrates by electron backscatter diffraction, Ultramicroscopy, 111, 314–319 (2011).
2. L.Wang, Y.Ji, B.Wei, Y.Q.Zhang, J.Y.Fu, X.D.Xu, X.D.Han, Charge compensation by in-situ heating for insulating ceramics in scanning electron microscope, Ultramicroscopy,109,1326-32 (2009).
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5.王俊忠, 吉 元, 田彦宝, 牛南辉, 徐晨, 韩军, 郭霞, 沈光地, GaN 外延结构中微区应变场的测量和评价, 电子学报, 36 (11), 2139-2143 (2008).
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