帅垚 - 电子科技大学 - 电子科学与工程学院

个人简介

教育背景 2009.10 - 2012.09: 亥姆霍兹德累斯顿罗森多夫研究中心（HZDR）, 博士 2006.09 - 2009.06: 电子科技大学, 硕士 2002.09 - 2006.06: 电子科技大学, 学士工作履历 2013.03－今: 电子科技大学, 讲师

研究领域

氧化物薄膜的阻变效应复杂氧化物薄膜中的电致阻变效应，包括薄膜生长的机理研究、阻变效应的微观机制、后处理工艺对阻变特性的调控等。热释电单元与线列器件非制冷红外热释电传感器、热释电线列器件等。

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17. Xinqiang Pan, Yao Shuai*, Chuangui Wu*, Wenbo Luo, Xiangyu Sun, Huizhong Zeng, Shengqiang Zhou, Roman Böttger, Xin Ou, Thomas Mikolajick, Wanli Zhang, Heidemarie Schmidt, Appl. Phys. Lett., 108, 032904 (2016). 16. L. Jin, Y. Shuai*, X. Ou, W.B. Luo, C.G. Wu, W.L. Zhang, D. Bürger, I. Skorupa, T. You, N. Du, O.G. Schmidt, , H. Schmidt, Appl. Surf. Sci. 336, 354 (2015). 15. Tiangui You,* Yao Shuai, Wenbo Luo, Nan Du, Danilo Bürger, Ilona Skorupa, René Hübner, Stephan Henker, Christian Mayr, René Schüffny, Thomas Mikolajick, Oliver G. Schmidt, and Heidemarie Schmidt, Adv. Funct. Mater. 24, 3357 (2014). 14. L. Jin, Y. Shuai*, H. Z. Zeng, W. B. Luo, C. G. Wu, W. L. Zhang, X. Q. Pan, P. Zhang, Y. R. Li, J. Mater. Sci. - Mater. Electron. 26, 1727 (2014). 13. L. Jin, Y. Shuai,* X. Ou,* P. F. Siles, H. Z. Zeng, T. You, N. Du, D. Bürger, I. Skorupa, S. Zhou, W. B. Luo, C. G. Wu, W. L. Zhang, T. Mikolajick, O. G. Schmidt, andH. Schmidt*, Phys. Status Solidi (A) 211, 2563 (2014). 12. Xin Ou,* Yao Shuai,* Wenbo Luo, Pablo F. Siles, Reinhard Kögler, Jan Fiedler, Helfried Reuther, Shengqiang Zhou, René Hübner, Stefan Facsko, Manfred Helm, Thomas Mikolajick, Oliver G. Schmidt, and Heidemarie Schmidt*, ACS Appl. Mater. & interfaces 5, 12764 (2014). 11. N. Du, N. Manjunath, Y. Shuai, D. Bürger, I. Skorupa, R. Schüffny, C. Mayr, D. N. Basov, M. Di Ventra, O. G. Schmidt, H. Schmidt, J. Appl. Phys. 115, 124501 (2014). 10. Y. Shuai,* X. Ou,* W. Luo, A. Mücklich, D. Bürger, S. Zhou, C. Wu, Y. Chen, W. Zhang, M. Helm, T. Mikolajick, O. G. Schmidt & H. Schmidt,* Scientific Reports 3, 2208 (2013). 9. N. Du, Y. Shuai, W. Luo, C. Mayr, R. Schüffny, O. G. Schmidt, H. Schmidt, Rev. Sci. Instrum. 84, 023903 (2013). 8. Y. Shuai,* X. Ou,* W. Luo, N. Du, C. Wu, W. Zhang, D. Bürger, C. Mayr, R. Schüffny, S. Zhou, M. Helm, H. Schmidt, IEEE Electron Dev. Lett. 34, 54 (2013). 7. W. B. Luo, J. Jing, Y. Shuai, J. Zhu, W. L. Zhang, S. Zhou, S. Gemming, N. Du, H. Schmidt, J. Phys. D: Appl. Phys. 46, 065307 (2013). 6. W. Luo, J. Zhu, Y. Shuai, W. Zhang, Y. Zhang, S. Zhou, S. Gemming, H. Schmidt, J. Appl. Phys. 113, 154103 (2013). 5. Yao Shuai,* Xin Ou, Chuangui Wu, Wanli Zhang, Shengqiang Zhou, Danilo Buerger, Helfried Reuther, Stefan Slesazeck, Thomas Mikolajick, Manfred Helm, and Heidemarie Schmidt, J. Appl. Phys. 111, 07D906 (2012). 4. Yao Shuai,* Shengqiang Zhou, Chuangui Wu, Wanli Zhang, D. Bürger, S. Slesazeck, T. Mikolajick, M. Helm, and H. Schmidt, Appl. Phys. Express 4, 095802 (2011). 3. Yao Shuai,* Shengqiang Zhou, D. Bürger, M. Helm, and H. Schmidt, J. Appl. Phys. 109, 124117 (2011). 2. Yao Shuai,* Shengqiang Zhou , Stephan Streit , Helfried Reuther , Danilo Bürger, Stefan Slesazeck , Thomas Mikolajick , Manfred Helm , and Heidemarie Schmidt, Appl. Phys. Lett. 98, 232901 (2011). 1. Yao Shuai,* Shengqiang Zhou, Danilo Bürger, Helfried Reuther, Ilona Skorupa, Varun John, Manfred Helm, and Heidemarie Schmidt, J. Appl. Phys. 109, 084105 (2011).