刘鹏,男,1981年出生,硕士。2007年起,专业从事微电子加工工艺研究,主要研究方向是基于电子束光刻工艺的纳尺度图形化技术,和基于高密度等离子体干法刻蚀工艺的纳尺度图形转移技术
开发大高宽比纳米结构无硬掩膜制造技术