翁俊 - 武汉工程大学 - 材料科学与工程学院

个人简介

2004年毕业于武汉工程大学材料物理专业，2011年获得武汉工程大学材料学专业硕士学位，2011-2014年在中科院等离子体物理研究所攻读博士学位，2014年获中国科学院理学博士学位。2014年至今，在武汉工程大学材料物理专业任教，从事关于等离子体工艺，薄膜生长，碳材料的研发等方面的研究工作。

研究领域

等离子体工艺，金刚石膜生长，新型碳材料

近期论文

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(1) J. Weng ，J.H. Wang，S.Y. Dai，L.W. Xiong，W.D. Man，F. Liu，Preparation of diamond films with controllable surface morphology, orientation and quality in an overmoded microwave plasma CVD chamber，Applied Surface Science，2013，276：529-534。 (2) J. Weng ，L.W. Xiong，J.H. Wang，S.Y. Dai，W.D. Man，F. Liu，Investigation of depositing large area uniform diamond films in multi-mode MPCVD chamber，Diamond and Related Materials，2012，30：15-19。 (3) 翁俊，熊礼威，汪建华，满卫东，陈冠虎，Effect of Gas Sources on theDeposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，Plasma Science and Technology，2010，（06）：760-764 (4) 翁俊，刘繁，孙祁，王小安，黄平，周璐，陈义，汪建华，氮气体积浓度对高微波功率沉积金刚石膜的影响，金刚石与磨料磨具工程，2015，35（3）：23-28。