个人简介
学习经历:
1988年– 1992年 佳木斯工学院,金属材料及热处理专业,工学学士
1992年– 1995年 哈尔滨工业大学,金属材料及热处理专业,工学硕士
1998年– 2004年 美国爱荷华州立大学,材料科学与工程专业,博士
工作经历:
2004年 - 2008年美国能源部Ames国家实验室,博士后研究员
2008年 - 2009年美国弗吉尼亚大学纳尺度与量子科学技术研究所,博士后研究员
2009年 - 至今山东大学材料科学与工程学院,副教授,教授,博士生导师
研究领域
1.富硼硼化物耐磨涂层
耐磨涂层技术广泛应用于工业生产的各个领域。在全球能源供应日益紧张的今天,将耐磨涂层沉积在各种机械运动部件的表面,降低摩擦减少磨损从而提高能源的使用效率是节能降耗的有效途径。在各种耐磨涂层材料中,富硼硼化物涂层材料由于兼具高硬度和低摩擦的特性,已引起学术界和工业界的极大兴趣。我们使用真空物理气相沉积技术(磁控溅射及多弧离子镀等)制备富硼硼化物涂层,研究其结构与性能的关系及耐磨机理,并探索该涂层材料在相关领域的应用。
2.薄膜生长机理及调控
3.光电功能薄膜材料与器件
近期论文
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1."Distinct surface hydration behaviors of boron-rich boride thin film coatings." Applied Surface Science, 2014, 311:749-752Xinhong Lu, Wei Liu, Jun Ouyang, Yun Tian*
2."Tribological characteristics and tribo-chemical mechanisms of Al-Mg-Ti-B coatings under water-glycol lubrication." Wear, 2015,326-327:68-73 Xinhong Lu, Kaiwen Yao, Jun Ouyang,Yun Tian*
3.Z. Q. Gan, Y. Tian, D. W. Lynch, Ji-hun Kang, Q-Han Park, and J. Shinar, “Spectrally narrowed edge emission from leaky waveguide modes in organic light-emitting diodes”, Journal of Applied Physics 106, 094502 (2009).
4.Y. Tian, Z. Q. Gan, Z. Q. Zhou, Ji-hun Kang, Q-Han Park, D. W. Lynch, and J. Shinar, “Spectrally narrowed edge emission from organic light-emitting diodes”, Applied Physics Letters 91 (14), 2007, 143504.
5.Y. Tian, G. Li, J. Shinar, N. L. Wang, B. A. Cook, J. W. Anderegg, A. P. Constant, A. M. Russell, J. E. Snyder, “Electrical transport in amorphous semiconducting AlMgB14 films”, Applied Physics Letters 85 (7), 2004, pp. 1181-1183.
6. Y. Tian, A. F. Bastawros, C. C. H. Lo, A. Constant, A. M. Russell, B. A. Cook, “Superhard self-lubricating AlMgB14 films for LIGA microdevices”, Applied Physics Letters 83 (14), 2003, pp. 2781-2783.
7. Y. Tian, A. Constant, C. C. H. Lo, J. W. Anderegg, A. M. Russell, J. E. Snyder, P. Molian, “Microstructure evolution of Al-Mg-B thin films by thermal annealing”, Journal of Vacuum Science and Technology A 21(4), 2003, pp. 1055-1063.