李艳丽 - 复旦大学 - 微电子学院

个人简介

教育背景 2010年09月～2015年06月复旦大学信息科学与工程学院，光学，博士 2006年09月～2010年06月山东大学信息科学与工程学院，光信息科学与技术，本科工作学术经历 2021年06月-至今复旦大学微电子学院，青年研究员 2018年11月-2021年05月上海集成电路研发中心有限公司，新型器件和材料实验室 2015年07月 -2018年11月中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，光刻研发部获奖或荣誉 2020年中国国际半导体技术大会（CSTIC 2020）最佳年轻工程师二等奖

研究领域

集成电路先进光刻工艺及光刻相关设备、光刻材料、光刻相关算法软件

近期论文

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Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen,“The Soft X-Ray Lithography Performance under Typical Single-digit nm Logic Design Rules, Including Stochastics and Defectivity”，IEEE Xplore , 2020. Yanli Li，Qiang Wu, and Yuhang Zhao, “A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns and Stochastic Printing Failures in a 5 nm Logic Process with EUV Lithography”，IEEE Xplore , 2020. Yanli Li，Qiang Wu, and Shoumian Chen，“A Simulation Study for Typical Design Rule Patterns in a 5 nm Logic Process with EUV Photolithography Process”，J. Microelectron. Manuf. 2019, 2(4):7. Yanli Li*, Xiaona Zhu, Shaofeng Yu, and Qiang Wu*，“A Study of the Advantages to the Photolithography Process brought by the High NA EUV Exposure Tool in Advanced Logic Design Rules ”，IEEE Xplore , 2021. Qiang Wu*，Yanli Li*, Xiaona Zhu, and, Shaofeng Yu，“The Discussion of the Typical BEOL Design Rules from 3 nm to 2 nm Logic Process with EUV and High NA EUV Lithography”，IEEE Xplore , 2021. Qiang Wu*，Yanli Li*, Liwan Yue*, and, Zhibiao Mao，“Process Model Guided Photoresist Formulation Optimization”，IEEE Xplore , 2021.