个人简介
华中科技大学机械科学与工程学院及数字制造装备与技术国家重点实验室教授，博士生导师，是湖北省杰出青年基金获得者，2011年在美国佛罗里达理工学院获机械工程博士学位。2011年至2014年在美国德克萨斯大学阿灵顿分校任博士后研究员、兼职讲师。2014年10月起任职华中科技大学。
近年来，主持包括国家自然科学基金面上项目2项，国家重点研发计划子课题，湖北省杰出青年基金等多项科研项目。在Phys. Rev. B, Phys. Rev. E, IEEE Trans., AIAA J., Opt. Express, Opt. Lett.等国际期刊上发表SCI论文65篇，其中第一作者及通讯作者40余篇，获国内外发明专利10余项。获湖北省技术发明一等奖、日内瓦国际发明金奖等荣誉。
开设课程
本科生课程：《计算机基础与程序设计》《计算方法（英）》
研究生课程：《微纳测试技术》（英）
主持的科研项目：
1、 国家自然科学基金面上项目，基于穆勒矩阵的纳米结构自组装过程原位测量理论与方法研究(NSFC 51975232)，2020/1 – 2023/12，60万元，在研，主持。
2、 国家自然科学基金面上项目，基于超快椭偏仪的瞬态冲击响应测量理论与方法研究(NSFC 51575214)，2016/1 – 2019/12，63万元，在研，主持。
3、 国家重点研发计划国家质量技术基础重点专项子课题，微纳薄膜材料结构光散射校准装置关键部件及椭偏光散射理论研究(2017YFF0204705)，2017/07 – 2020/12，70万元，在研，主持。
4、 湖北省基金杰出青年项目，有序材料制备过程原位穆勒矩阵椭偏测量理论与方法研究(2018CFA057)，2018/3 – 2020/12，20万元，在研，主持。
5、 湖北省基金面上项目，基于穆勒矩阵椭偏实时测量的可控纳米褶皱制备机理研究(2015CFB278)，2015/1 – 2016/12，3万元，已结题，主持。
参与的主要科研项目：
1、 国家自然科学基金重大科研仪器研制项目，高分辨层析成像穆勒矩阵椭偏仪研制与应用基础研究(NSFC51727809)，2018/1 – 2022/12，701万元，在研，第2负责人，项目副组长。
2、 国家重大科技专项子课题，套刻误差光学测量技术研究(2017ZX02101006-004)，2017/1 – 2020/12，742万元，在研，第2负责人，项目副组长。
研究领域
1、光刻成像理论与计算光刻技术
面向集成电路(IC)制造中光刻掩模设计优化难题，开展光刻成像建模、掩模设计优化、大规模计算机集群并行计算等研究，重点包括三维掩模模型及其半解析麦克斯韦求解算法、高NA矢量成像模型及其卷积变量分离求解算法、三维光刻胶模型及维纳非线性系统求解方法等理论方法研究与工程实践，为IC设计与制造提供桥梁与工具。
2、 纳米光学测量技术与仪器
面向集成电路(IC)、有机显示(OLED)、柔性电子制造过程中的制造机理、工艺控制与良率管理等问题，研究具有高时空分辨的新型材料形性测量技术与仪器，实现IC、LED、OLED、PV、柔性电子等新型半导体光电材料的电学、光学、力学、动力学等物理特性动态表征测量。
3、 集成电路IC制造在线缺陷检测技术与装备
面向10nm节点以下IC制程，研究图形化硅片与掩模缺陷跨尺度检测理论方法与技术，解决其中灵敏度、分辨力、检测速度等一系列挑战性难题，为批量化IC制造中“微米-亚微米-纳米”光刻硅片及掩模跨尺度缺陷在线检测提供有效的新原理、新途径和新工具。
长期从事光刻成像理论与计算光刻技术、纳米光学测量技术与仪器、集成电路IC制造在线缺陷检测技术与装备等方面的研究工作，致力于精密机械、光学工程、仪器科学、光电材料、集成电路等学科交叉融合的基础研究与产业应用
近期论文
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1. J. Liu, H. Jiang*, L. Zhang, H. Gu, X. Chen, and S. Liu, Thickness dependent native oxidation kinetics observation and prediction for Cu films using spectroscopic ellipsometry, Appl. Surf. Sci. 518, 146236, (2020).
2. S. Zhang, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, S. Liu, High-speed Mueller matrix ellipsometer with microsecond temporal resolution, Opt. Express. 28, 10873-10887 (2020).
3. S. Zhang, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, S. Liu, Attitude metrology based on field-of-view effect of birefringence using high-speed polarimetry, Opt. Lett. 45, 2074-2077 (2020).
4. J. Liu, M. Wang, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, and S. Liu, Annealing temperature dependency of optical and structural properties for Cu films, Phys. Rev. B 101, 014107, (2020).
5. Z. Zhong, W. Gong, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, S. Liu, Investigation of Spatial Chirp Induced by Misalignments in a Parallel Grating Pair Pulse Stretcher. Appl. Sci. 10, 1584， (2020).
6. Z. Zhong, L. Zhang, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, C. Zhang, S. Liu, Improved Fourier transformation based method for accurate phase and amplitude retrieval in spectral interferometry, J. Opt. 22, 035501 (2020).
7. Z. Zhong, L. Zhang, H. Jiang*, W. Gong, H. Gu, X. Chen, S. Liu, A Brewster incidence method for shocked dynamic metrology of transparent materials and its error evaluation, AIP Advances 10, 105203 (2020).
8. S. Zhang, L. Wang, A. Yi, H. Gu, X. Chen, H. Jiang*, S. Liu, Dynamic modulation performance of ferroelectric liquid crystal polarization rotators and Mueller matrix polarimeter optimization, Front. Mech. Eng. 15, 256-264, (2020).
9. Z. Zhou, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, H. Peng, Y. Liao, S. Liu, X. Xie, Strain-optical behavior of polyethylene terephthalate film during uniaxial stretching investigated by Mueller matrix ellipsometry, Polymer 182, 121842, (2019).
10. S. Zhang, C. Chen, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, C. Zhang, S. Liu, Dynamic characteristics of nematic liquid crystal variable retarders investigated by a high-speed polarimetry, J. Opt. 21, 065605 (2019).
11. J. Liu, J. Lin, H. Jiang*, H. Gu, X. Chen, C. Zhang, G. Liao, S. Liu, Characterization of dielectric function for metallic thin films based on ellipsometric parameters and reflectivity, Phys. Scr. 94, 085802, (2019).
12. H. Jiang*, Z. Ma, H. Gu, X. Chen, S. Liu, Characterization of volume gratings based on distributed dielectric constant model using mueller matrix ellipsometry. Appl. Sci. 9(4), 698, (2019).
13. H. Jiang, H. Peng, G. Chen, H. Gu, X. Chen, Y. Liao, S. Liu, X. Xie, Nondestructive investigation on the nanocomposite ordering upon holography using Mueller matrix ellipsometry, Eur. Polym. J. 110, 123-129 (2019).
14. S. Zhang, H. Gu, J. Liu, H. Jiang*, X. Chen, C. Zhang, S. Liu, Characterization of beam splitters in the calibration of a six-channel Stokes polarimeter, J. Opt. 20, 125606 (2018).
15. J. Liu, C. Zhang, Z. Zhong, H. Gu, X. Chen, H. Jiang*, and S. Liu, Measurement configuration optimization for dynamic metrology using Stokes polarimetry, Meas. Sci. Technol. 29, 054010 (2018).
16. H. Gu, X. Chen, C. Zhang, H. Jiang*, and S. Liu, Study of the retardance of a birefringent waveplate at tilt incidence by Mueller matrix ellipsometer, J. Opt. 20, 015401 (2018).
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