个人简介

国家优秀青年科学基金获得者。2013年6月博士毕业于华中科技大学机械电子工程专业，同年进入华中科技大学材料学院博士后流动站，2016年6月出站并留校工作，2020年破格晋升教授。2016年12月至2018年8月期间，作为日本学术振兴会(JSPS)外国人特别研究员赴日本东北大学进行合作交流。 近年来，作为负责人主持国家自然科学基金3项，作为骨干人员参与国家自然科学基金重大科研仪器研制项目、首批国家重大科学仪器设备开发专项、国家科技重大专项等国家级科研项目10余项。申请和授权国际国内发明专项30余项，在Appl. Phys. Lett.、Opt. Express、Opt. Lett.等期刊发表SCI论文70余篇。曾获上银优秀机械博士论文奖、湖北省自然科学优秀学术论文一等奖、日内瓦国际发明金奖、湖北省技术发明一等奖、华中科技大学“学术新人奖”等荣誉。 本科生课程： 《数字电路》 《数据库技术及应用》 研究生课程：《椭偏测量学导论》 承担的科研项目： 1. 国家自然科学基金优秀青年科学基金，52022034，纳米测量技术与仪器，2021-2023，在研，主持 2. 国家自然科学基金面上项目，51775217，基于离焦扫描穆勒显微镜的纳米结构缺陷检测理论与方法研究，2018-2021，在研，主持 3. 国家自然科学基金青年基金，51405172，纳米结构几何参数广义成像椭偏测量理论与方法研究，2015-2017，已结题，主持 4. 湖北省重点研发计划重点项目，2020BAA008，复杂IC纳米结构三维形貌测量关键技术研究，2020-2022，在研，主持 5. 湖北省自然科学基金面上项目，2018CFB605，基于层析穆勒矩阵散射仪的三维纳米结构测量理论与方法研究，2018-2019，已结题，主持 6. 国家自然科学基金重大科研仪器研制项目，51727809，高分辨层析成像穆勒矩阵椭偏仪研制与应用基础研究，2018-2022，在研，参与 7. 国家科技重大专项子课题，2017ZX02101006-004，套刻误差光学测量技术研究，2017-2020，在研，参与 荣誉与奖励： 1. 国家优秀青年科学基金获得者 2. 日本学术振兴会外国人特别研究员 3. 华中科技大学学术新人奖 4. 2019年湖北省技术发明一等奖（排名2） 5. 2020年度华中科技大学重大学术进展（排名2） 6. 湖北省第十六届自然科学优秀学术论文一等奖 7. 华中科技大学优秀博士后 8. 第四届上银优秀机械博士论文奖

研究领域

1. 面向集成电路IC制造的纳米测量技术与装备 面向集成电路(IC)、发光二极管(LED)、有机显示(OLED)、光伏太阳能(PV)、柔性电子制造中的工艺控制和良率管理，研究纳米薄膜、纳米结构关键尺寸(CD)、套刻误差等三维形貌测量新原理与新方法，解决IC制造纳米测量装备中的“卡脖子”技术难题。 2. 新型椭偏仪研制与半导体光电材料表征测量 研制宽光谱椭偏仪、高分辨成像椭偏仪、快照式椭偏仪等新型椭偏仪器，实现石墨烯、过渡金属硫族化合物、黑磷、硅烯等新型二维材料，以及IC、LED、OLED、PV、柔性电子等新型半导体光电材料的电学、光学、力学等物理特性表征测量。

主要从事光学纳米测量技术与仪器、集成电路(IC)制造在线测量技术与装备、新型椭偏仪研制与光电材料表征测量等方面的研究工作

近期论文

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1. C. Wang, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu*, “On the limits of low-numerical-aperture imaging scatterometry,” Opt. Express 28, 8445-8462 (2020) 2. Y. Shi, K. Li, X. Chen*, P. Wang, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, “Multiobjective optimization for target design in diffraction-based overlay metrology,” Appl. Opt. 59, 2897-2905 (2020) 3. Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, “Fast reconstruction of the aberrated scanning lithographic image by a quadratic imaging model and an integral transfer function,” Appl. Opt. 59, 4708-4717 (2020) 4. H. Gu, X. Chen*, H. Jiang, Y. Shi, and S. Liu, "Wide field-of-view angle linear retarder with ultra-flat retardance response," Opt. Lett. 44, 3026-3029 (2019). 5. X. Chen*, J. Liao, H. Gu, Y. Shi, H. Jiang, and S. Liu, "Proof of principle of an optical Stokes absolute roll-angle sensor with ultra-large measuring range," Sens. Actuat. A 291, 144-149 (2019). 6. C. Chen, X. Chen*, H. Gu, H. Jiang, C. Zhang, and S. Liu, "Calibration of polarization effect of a high-numerical-aperture objective lens with Mueller matrix polarimetry," Meas. Sci. Technol. 30, 025201 (2019). 7. Z. Yang, X. Chen*, H. Jiang, and S. Liu, "In-line wavefront aberration adjustment of a projection lens for a lithographic tool using the dominant mode method," Appl. Opt. 58, 4176-4184 (2019). 8. H. Gu, X. Chen*, Y. Shi, H. Jiang, C. Zhang, P. Gong, and S. Liu, “Comprehensive characterization of a general composite waveplate by spectroscopic Mueller matrix polarimetry,” Optics Express 26, 25408-25425 (2018). 9. C. Chen, X. Chen*, Y. Shi, H. Gu, H. Jiang, and S. Liu, “Metrology of nanostructures by tomographic Mueller-matrix scatterometry,” Applied Science 8, 2583 (2018). 10. Y. Tan, C. Chen, X. Chen*, W. Du, H. Gu, and S. Liu, “Development of a tomographic Mueller-matrix scatterometer for nanostructure metrology,” Review of Scientific Instruments 89, 073702 (2018)