个人简介
招生方向
碳化硅器件及其可靠性
教育背景
2014-04--2017-03 大阪大学 博士研究生
2007-04--2009-03 德岛大学 硕士研究生
2002-09--2006-07 四川大学 本科
工作简历
2014-04~2017-03,大阪大学, 博士研究生
2009-04~2011-09,新日本无线株式会社, 研发工程师
2007-04~2009-03,德岛大学, 硕士研究生
2002-09~2006-07,四川大学, 本科
专利成果
( 1 ) 一种SiC基MOSFET器件P型欧姆接触的制备方法, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510751699 X
科研项目
( 1 ) 高压大功率碳化硅电力电子器件平台工艺开发与器件研制, 主持, 省级, 2016-01--2017-12
( 2 ) 高压碳化硅器件高温氧化工艺技术研究, 主持, 院级, 2015-01--2017-12
( 3 ) 碳化硅高能高温离子注入关键技术研究, 主持, 院级, 2016-01--2018-12
参与会议
(1)Improved electrical properties of 4H-SiC MOS devices with high temperature thermal oxidation Hengyu Xu 2015-09-21
近期论文
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(1) Improving interface quality of 4H-SiC MOS devices with high temperature oxidation process in mass produce furnace, Materials Science Forum, 2015, 第 1 作者