个人简介
招生专业
080903-微电子学与固体电子学
080300-光学工程
085400-电子信息
招生方向
集成电路先导工艺技术
光学模型
计算光刻
教育背景
2008-09--2014-07 北京理工大学 博士研究生
2004-09--2008-07 合肥工业大学 学士学位
工作简历
2017-07~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2014-09~2017-07,中国科学院微电子研究所, 助理研究员
2008-09~2014-07,北京理工大学, 博士研究生
2004-09~2008-07,合肥工业大学, 学士学位
教授课程
集成电路先进光刻与版图设计优化
超大规模集成电路先进光刻理论与应用
专利成果
（ 1 ） 测振装置, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810645791.1
（ 2 ） 一种焦面位置测试掩膜版及确定焦面位置的方法, 2015, 第 1 作者, 专利号: 201510474182.0
（ 3 ） 一种NAND Flash存储器读阈值电压修复方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: 201910940861.0
（ 4 ） 一种NAND Flash时序测试方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: 201910983809.3
（ 5 ） 一种套刻误差的补偿方法及装置, 2019, 第 3 作者, 专利号: 201911113826.8
（ 6 ） 一种掩膜图形的优化方法、最佳焦平面位置测量方法及系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201610342206.1
（ 7 ） 测试图形的选取方法和装置、构建光刻模型的方法和装置, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810054861.6
（ 8 ） 晶圆清洗装置及晶圆清洗方法, 2018, 第 4 作者, 专利号: 201810565440.X
（ 9 ） 添加亚分辨率辅助图形的方法及该方法的应用, 2018, 第 4 作者, 专利号: 201810552404.X
（ 10 ） 基于衍射的套刻误差测量中测量波长的选择方法, 2018, 第 4 作者, 专利号: 201810757735.7
（ 11 ） 一种掩模参数的优化方法及装置, 2018, 第 3 作者, 专利号: 201810967757.6
（ 12 ） 一种获取套刻误差量测数据的方法及装置, 2020, 第 4 作者, 专利号: 202010057340.3
（ 13 ） 七级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法, 2016, 第 2 作者, 专利号: 201610140991.2
（ 14 ） 五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法, 2016, 第 2 作者, 专利号: 201610140129.1
（ 15 ） 光源掩模协同优化方法, 2015, 第 4 作者, 专利号: 201510810017.8
（ 16 ） 提高版图光刻性能的方法、修正后的版图及仿真方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: 201911356420.2
（ 17 ） 一种基于版图几何特征匹配的光刻解决方案预测方法, 2016, 第 5 作者, 专利号: 201611184182.8
（ 18 ） 一种确定光刻工艺节点禁止周期的方法及仿真方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: 201911356545.5
发表著作
（ 1 ） 计算光刻与版图优化, 电子工业出版社, 2021-01, 第 3 作者
科研项目
（ 1 ） 超大数值孔径光刻中的负显影模型研究, 主持, 国家级, 2019-01--2021-12
（ 2 ） 5纳米光刻技术方案与设计规则优化, 参与, 国家级, 2017-01--2020-12
近期论文
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（1） Impact of flare on source mask optimization in EUVL for 7nm technology node, Proc. SPIE, 2020, 第 1 作者
（2） Compressive sensing method for EUV source optimization using different bases, Proc. SPIE, 2020, 第 2 作者
（3） Analysis and modulation of aberration in an extreme ultraviolet lithography projector via rigorous simulation and a back propagation neural network, Applied Optics, 2020, 通讯作者
（4） Analysis and mitigation of forbidden pitch effects for EUV lithography, Proc. SPIE, 2020, 通讯作者
（5） A Study on Three Dimensional Mask Effect of Attenuated Phase-Shift Mask in Advanced Optical Lithography, Chinese Journal of Electronics, 2020, 通讯作者
（6） Fast extreme ultraviolet lithography mask near-field calculation method based on machine learning, Applied Optics, 2020, 第 2 作者
（7） EUV multilayer defect characterization via cycle-consistent learning, Optics Express, 2020, 第 4 作者
（8） Learning-based compressive sensing method for EUV lithographic source optimization, Optics Express, 2019, 第 2 作者
（9） A method for compensating lithographic influence of EUV mask blank defects by an advanced genetic algorithm, Proc. SPIE, 2019, 第 2 作者
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（20） RESIST MODEL SETUP FOR NEGATIVE TONE DEVELOPMENT AT 14NM NODE, IEEE, 2018, 第 2 作者
（21） Optimization of absorber and multilayer in EUV mask for 1D and 2D patterns, Proc. SPIE, 2018, 第 3 作者
（22） Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type, J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017, 第 1 作者
（23） Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography, Optics Letter, 2017, 第 1 作者
（24） Improving the topography performance of ion implantation resist, Proc. SPIE, 2017, 第 1 作者
（25） Applications of RCWA on EUV mask optics, Proc. SPIE, 2017, 第 2 作者
（26） Hotspots Fixing Flow in NTD Process by Using DTCO Methodology at 10nm Metal 1 Layer, Proc. SPIE, 2017, 第 2 作者
（27） AN OFFLINE ROUGHNESS EVALUATION SOFTWARE AND ITS APPLICATION IN QUANTITATIVE CALCULATION OF WIGGLING BASED ON LOW FREQUENCY POWER SPECTRAL DENSITY METHOD, IEEE, 2017, 第 2 作者
（28） Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application, J. Vac. Sci. Technol. B, 2017, 第 2 作者
（29） New alignment mark designs in single patterning and self-aligned double patterning, Microelectronic Engineering, 2017, 第 2 作者
（30） New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement, Proc. SPIE, 2017, 第 2 作者
（31） Necessity of resist model in source mask optimization for negative tone development process, J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2017, 第 2 作者
（32） 光源掩模协同优化的原理与应用, 半导体技术, 2017, 第 3 作者
（33） Optimization of resist parameters to improve the profile and process window of the contact pattern in advanced node, J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2016, 第 1 作者
（34） A Novel Mask Structure for Measuring the Defocus of Scanner, Proc. SPIE, 2016, 第 1 作者
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