个人简介
招生方向
机械设计
自动化控制
教育背景
2003-03--2006-09 电子科技大学 硕士
1994-09--1998-06 武汉测绘科技大学 本科
工作简历
2008-01~现在, 中国科学院光电技术研究所, 副研究员
2003-01~2007-12,中国科学院光电技术研究所, 助理研究员
1998-07~2002-12,中国科学院光电技术研究所, 实习研究员
奖励信息
（1） 四川省科技进步三等奖, 三等奖, 省级, 2008
（2） 四川省科技进步二等奖, 二等奖, 省级, 2005
（3） 四川省科技进步三等奖, 三等奖, 省级, 2001
专利成果
（ 1 ） 一种红外成像光学读出系统的照明装置, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010608942.6
（ 2 ） 一种光刻机掩模刀口移动装置, 发明, 2010, 第 2 作者, 专利号: 201010200465.3
（ 3 ） 一种投影光刻机中的光束稳定装置, 发明, 2010, 第 5 作者, 专利号: 201010256374.1
（ 4 ） 一种基于相位分布的单点掩模硅片调平方法, 发明, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010276966.X
（ 5 ） 一种光刻机真空曝光装置, 发明, 2010, 第 3 作者, 专利号: 201010605511.8
（ 6 ） 一种光刻机真空曝光装置, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: ZL201010605511.8
（ 7 ） 一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置, 发明, 2012, 第 3 作者, 专利号: ZL201110216470.8
（ 8 ） 一种二维扫描精密激光曝光系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL200610012094.X
（ 9 ） 一种具有面积微分的球面光刻系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL200810056381.X
（ 10 ） 一种阵列微梁单元偏角测量系统, 发明, 2010, 第 1 作者, 专利号: ZL200810102776.9
（ 11 ） 一种投影光刻物镜中的镜片倾斜微调机构, 发明, 2011, 第 1 作者, 专利号: ZL200910237659.8
（ 12 ） 一种用于桌面STEPPER光刻机的投影物镜, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410543114.0
（ 13 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: 201510002637.9
（ 14 ） 基于拼接光栅莫尔条纹相位解调的纳米光刻对准方法, 发明, 2014, 第 4 作者, 专利号: 201410085381.8
（ 15 ） 一种用于i线大面积平板投影光刻机的物镜, 发明, 2015, 第 2 作者, 专利号: 201410076488.6
（ 16 ） 一种投影光刻物镜中的镜片偏心微调机构, 发明, 2009, 第 3 作者, 专利号: 200910237660.0
（ 17 ） 基于数字微镜阵列制作不同深度的多台阶光栅的无掩模光刻机, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510601326.4
（ 18 ） 一种单焦点光子筛, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201510757846.4
（ 19 ） 一种用于光刻系统的单倍双远心光刻投影物镜, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510862320.2
（ 20 ） 一种基于紫外宽光谱泰伯自成像的光刻系统, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201510758399.4
（ 21 ） 基于紫外宽光谱自成像制备二维周期阵列的光刻方法及装置, 发明, 2015, 第 5 作者, 专利号: 201510770348.3
（ 22 ） 一种透镜热变形对光学系统成像结果影响的分析方法, 发明, 2015, 第 4 作者, 专利号: 201510002637.9
（ 23 ） 一种基于外差干涉和二次衍射效应的光栅位移测量系统, 发明, 2015, 第 3 作者, 专利号: 201510100566.6
科研项目
（ 1 ） 高精度投影光刻物镜结构设计与分析, 主持, 国家级, 2009-01--2016-12
（ 2 ） 双工件台原理实验与验证, 主持, 国家级, 2009-01--2016-12
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（21） 数字灰度投影光刻技术, 微纳电子技术, 2009, 第 1 作者
（22） 球面投影光刻物镜的设计, 光电工程, 2009, 第 1 作者
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