邵淑英 - 中国科学院大学

个人简介

招生方向光学薄膜材料与性能教育背景 2002-03--2005-03 中科院上海光几所博士学位 1999-09--2002-03 西北工业大学硕士工作简历 2008-10~2011-07,中科院上海光机所, 副研究员 2005-03~2008-10,中科院上海光机所, 助研 2002-03~2005-03,中科院上海光几所, 博士学位 1999-09~2002-03,西北工业大学, 硕士奖励信息（1）军队科技进步二等奖, 部委级, 2012 专利成果（ 1 ）一种基于有限元模拟的大口径光学镀膜元件低频面形参数预测方法, 发明, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201610318489.6 科研项目（ 1 ）薄膜宏观应力（G08）, 主持, 国家级, 2007-10--2011-02 （ 2 ） AM100919, 参与, 国家级, 2009-01--2014-02 （ 3 ） 193nm薄膜以及135nm薄膜的研制, 参与, 国家级, 2002-12--2005-12 （ 4 ）偏振膜, 参与, 国家级, 2004-01--2005-12 （ 5 ） A101957-XXXX(A10), 参与, 国家级, 2009-10--2012-02 （ 6 ） 1Z05010806.1-2010HT-C01, 参与, 国家级, 2010-01--2012-02 （ 7 ） 1ZCA10197501, 参与, 国家级, 2010-12--2012-02 （ 8 ） 1ZJPPT-5-115-186601, 参与, 国家级, 2010-12--2013-02 （ 9 ）激光多层膜光学元件, 参与, 国家级, 2001-01--2005-12 （ 10 ）介质薄膜(B07), 参与, 国家级, 2007-07--2010-02 （ 11 ） 1ZXXXX01, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02 （ 12 ） XXXX081022, 参与, 国家级, 2008-07--2010-02 （ 13 ）激光薄膜(G09), 参与, 国家级, 2008-11--2012-02 （ 14 ）强激光材料(CK09), 参与, 部委级, 2009-01--2019-12 参与会议（1）Influence of subsurface defects on 355 nm laser damage resistance of monolayer and multilayer coatings Guohang Hu, Shuying Shao, Minghong Yang, Jianda Shao, Yuan’an Zhao, Kui Yi, Zhengxiu Fan 2009-09-19

近期论文

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（1） A Finite Element Analysis Method of Low Frequency Surface Figure Parameters ofCoating Components, 凝聚态物理学进展, 2016, 第 1 作者（2）单斜相HfO2 薄膜弹性常数的第一性原理计算, 光学学报, 2013, 第 2 作者（3）高功率激光器光学元件镀膜前后评价参数探讨, 中国激光, 2010, 第 2 作者（4） Y2O3 stabilized ZrO2 thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses, Vacuum, 2009, 第 3 作者（5）双光束在线实时测量光学薄膜应力的装置, 中国激光, 2009, 通讯作者（6）薄膜生长应力演化研究, 光学学报, 2009, 第 2 作者（7）氧分压和沉积速率对薄膜残余应力的影响, 中国激光, 2009, 第 2 作者（8） Influences of Y2O3 dopant content on residual stress, structure, and optical properties of ZrO2 thin f ilms, 中国光学快报, 2009, 第 2 作者（9） Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films, Thin Solid Films, 2008, 第 3 作者（10）电子束蒸发镀膜速率控制, 中国激光, 2008, 第 4 作者（11）沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响, 光学学报, 2008, 第 3 作者（12） Annealing ef fects on residual stress of HfO2/SiO2 multilayers, 中国光学快报, 2008, 第 4 作者（13） Stress analysis of ZrO2 /SiO2 multilayers deposited on different substrates with different thickness periods, OPTICS LETTERS, 2005, 第 1 作者（14）氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质及光学性质的影响, 光子学报, 2005, 第 1 作者（15）沉积参数及时效时间对SiO2薄膜中残余应力的影响, 光学学报, 2005, 第 1 作者（16）薄膜应力研究综述, 激光与光电子进展, 2005, 第 1 作者（17） ZrO2/SiO2多层膜中组合膜厚周期数及基底材料对残余应力的影响, 物理学报, 2005, 第 1 作者（18） Influences of post-deposition annealing on the properties of ZrO2 thin films prepared by electron beam evaporation, The 5th International conference on Thin Film Physics and Application, 2004, 第 1 作者（19） ZrO2薄膜残余应力实验研究, 光学学报, 2004, 第 1 作者（20）沉积温度对ZrO2薄膜性质的影响, 中国激光, 2004, 第 1 作者（21） Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO2 thin films deposited at different temperatures and rates, Thin Solid Films, 2003, 第 1 作者