齐向东 - 中国科学院大学

个人简介

招生方向光栅制作与应用技术研究教育背景学历-- 研究生学位-- 博士工作经历专利成果（1）一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法，发明，2010，第3作者，专利号： CN101793988A （2）凹面全息光栅制作中光栅基底的双光束定位方法，发明，2010，第4作者，专利号： CN101726778A （3）全息光栅制作中实时监测曝光量的方法，发明，2009，第3作者，专利号： CN101441431 （4）一种采用复制技术制作非球面光栅的方法，发明，2009，第2作者，专利号： CN101441286 （5）一种全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的装置，发明，2010，第4作者，专利号： CN101750649A （6）一种调整洛艾镜装置中洛艾镜与光栅基底垂直度的方法，发明，2010，第4作者，专利号： CN101819323A （7）平面全息光栅制作中光栅基底的零级光定位方法，发明，2010，第4作者，专利号： CN101718884A （8）一种带有CCD多色器的光栅衍射效率测试仪，发明，2009，第2作者，专利号：CN101441111 科研项目（1）高端全息光栅研制，主持，国家级，2011-10--2016-10 （2）高精度衍射光栅刻划系统研制，参与，省级，2010-01--2012-07 （3）大型高精度衍射光栅刻划系统，主持，国家级，2009-01--2012-07

近期论文

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（1） Czerny-Turner正交型光栅单色仪的波长校准，光谱学与光谱分析，2012，第4作者（2）轻小型中阶梯光栅光谱仪光学设计及性能分析，光谱学与光谱分析，2012，第2作者（3）凸面光栅成像光谱仪的光谱定标，光学精密工程，2011，第1作者（4）大型衍射光栅刻划机控制系统研究，中国科技大学学报，2011，第4作者（5）凹面全息光栅曝光系统中两记录光束能量比的选择方法，液晶与显示，2011，第1作者（6）制作平面全息光栅的离轴抛物镜/洛埃镜干涉系统，光学精密工程，2011，第5作者（7）紫外全息闪耀光栅的制作，光学精密工程，2010，第4作者（8）丝杠精度双频激光干涉测量中的阿贝误差实时补偿，中国光学与应用光学，2010，第1作者（9） A new method of measuring lead screw with dual-frequency laser interference，2010 International Conference on Computer,Mechatronics,Control and Eletronic Engineering，2010，第1作者（10）平面反射光栅衍射效率自动测试仪的设计与分析，光谱学与光谱分析，2009，第2作者（11）紫外平面刻划光栅杂散光数值分析及测试，光学精密工程，2009，第5作者（12）基于精密刻划及薄膜沉积技术的光盘分束光栅研制，光学精密工程，2009，第5作者

学术兼职

2001-06--今中国仪器仪表学会仪表元件分会，理事