个人简介
1985年1月 至 1992年4月 吉林大学，任讲师
1992年5月 至 1994年5月 中科院物理所，博士后研究员
1994年5月 至 1995年3月 吉林大学，任副教授
1995年3月 至 2004年6月 日本ULVAC Materials Inc，特别研究员
2004年6月 至 今 大连交通大学光电材料与器件研究所，教授/所长
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1. New maskless film making method using ultrafine particles, invited report in '96 IMC Proceedings (p41), Omiya, Japan, April 24 (1996).
2. Magnetic properties of Fe/Pd multilayers grown by electron beam evaporation, J. Appl. Phys. 77(8), 3965 (1995),.
3. Structural Study of Fe/Pd Magnetic Multilayers by X-ray Diffraction, Phys. Rev. B 50(9), 6119 (1994)
4. Granular magnetoresistance ribbon materials suitable for isotropic magnetic field transducers, J. Appl. Phys. 76(8), 4918 (1994).
5. Epitaxial growth of diamond films on the {221} and {100} surface of c-BN with microstructures full of (100) facets, Appl. Phys. Lett., 64(15), 1941(1994).
6. Orientation influence of c-BN crystal facets on the epitaxial growth of diamond film by MPCVD, J.Crystal Growth, 135, 639 (1994).
7. X-ray study of TiN coatings, Vacuum, 44(1), 51 (1993).
8. X-ray analysis of ion-plated TiN coatings on high speed steel, Canadian Metallurgical Quarterly, 32(2), 387 (1993).
9. A study of valent electron structures and mechanical properties of TiN, Science Bulletin, 37. 7(1992).
10. First and second order Raman scattering in TiN coatings, J. CHN. Met. Sci. Techno. (English Edition), 7, 421 (1991).
11. FPD中国制造产业链中关键材料的现状与机遇。CEM中国电子商情。2008
12. Ar气压强对直流脉冲磁控溅射制备Mo 薄膜性能的影响。微细加工技术，2008
13. 薄膜厚度对直流脉冲磁控溅射Mo 薄膜光电性能的影响. 光学仪器. 2008
14. 柔性有机电致发光器件衬底阻透性能的测试方法. 液晶与显示. 2008
15. 太阳能光伏电池及其气相沉积技术研究进展. 真空电子技术. 2008
16. Influences of Working Pressure on Properties for TiO2 Films Deposited by DC Pulse Magnetron Sputtering. Journal of Environmental Science. 21(6), 741, (2009)
17. 沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响. 物理学报. 58(1), 432 (2009)
18. 纳米ZnO粉体的制备及紫外-可见光吸收性能研究. 中国陶瓷工业. 16(2), 5 (2009)
19. 溶胶-凝胶法制备MgxZn1-xO纳米材料. 中国陶瓷工业.16(4), 4 (2009)
20. O2/Ar比例对直流脉冲磁控溅射制备TiO2薄膜光催化性能的影响. 真空科学与技术学报. 30(2),106 (2010)
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