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吴汉明 教授 博导 收藏 完善纠错
中国科学技术大学    微电子学院
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个人简介

主要从事高密度等离子体深亚微米刻蚀研究，研发了世界上第一套等离子体工艺模拟的商业软件并得到广泛使用。2001年进入中芯国际集成电路制造有限公司后，组建了先进刻蚀技术工艺部，在中国实现了用于大生产的双镶嵌法制备工艺，为中国首次实现铜互连提供了工艺基础。发表论文100多篇；申报发明专利84项，其中国际专利24项；国家十一五02重大专项项目总负责人；国家十二五重大专项项目首席科学家；国家973项目首席科学家。

研究领域

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1、先进芯片大生产关键技术；2、特殊SOC芯片设计技术；3、大生产芯片的可靠性研究。

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