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个人简介

获奖情况 2011年新世纪优秀人才支持计划 2009年辽宁省百千万人才工程“千”人层次,2009Q362 2013年辽宁省精品资源共享课“化工原理”,排名第四 2014年中国有色金属学会科技论文奖一等奖,[2014]64L024 “Fluidized-bed chlorination thermodynamics and kinetics of Kenya natural rutile ore” 2014年东北大学教学成果奖一等奖,排名第三 适应冶金工程专业的《化工原理》教学体系的建设与创新 2015年东北大学本科生毕业设计(论文)优秀指导教师

研究领域

有色金属二次资源清洁利用、冶金过程新流程、新技术

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牛丽萍,张廷安,王文博,周爱平,黄惠东,基于熔融态氯化镁热解实现新镁钛联合的研究,稀有金属材料与工程,2014,42(12):3138-3140. 牛丽萍,张廷安,倪培远,王文博,吕国志,周爱平.肯尼亚天然金红石流化床氯化率的研究, 稀有金属材料与工程,2014.43(6):1377-1380. Li-Ping Niu, Pei-Yuan Ni, Ting-An, Zhang, Guo-Zhi Lv, Ai-Ping Zhou, Xibin, Liang & De-long Meng Mechanism of the fluidized chlorination reaction of Kenya natural rutile ore, Rare Metals,2014,33(4):485-492. Li-Ping Niu, Ting-An Zhang, Pei-Yuan Ni, Guo-Zhi Lv.Kingsam Ouyang. Fluidized-bed chlorination thermodynamics and kinetics of Kenya natural rutile ore, Transaction of Nonferrous Metals Society of China, 2013.23(11):3448-3455. Niu Liping, Zhou Aiping, Zhang Ting’an, Wang,Wenbo, Lv Guozhi, Jiang Xiaoli. A clean titanium sponge production process and new method for the recycling of magnesium and chlorine, TMS 2013 Annual meeting, 2014.115-119. 牛丽萍,张廷安,周爱平,吕国志,赫冀成. 熔融态氯化镁直接热解制备氧化镁粉体及表征,中国有色金属学报,2013.2(6):1732-1738 (EI) 牛丽萍,张廷安,史冠勇,赫冀成,基于Nastran等离子喷涂厚壁零件涂层中残余应力分析。真空科学与技术,2012.32(9):805-809 (EI) 牛丽萍; 张廷安; 赫冀成; 豆志河,等离子喷涂薄壁工件涂层中温度场解析,东北大学学报(自然科学版),2010,31(4):519-522.(EI) 牛丽萍,张廷安,史冠勇,豆志河,等离子喷涂薄壁零件涂层中残余应力,东北大学学报(自然科学版),2011,32(10):1448-1451. (EI) НюЛипин,ТарасовВ. А,ПурзяковА. Ф. Модельформированияостаточныхнапряженийвсистеме «деталь-покрытие» впроцессахплазменногонапыленияⅠ// Сварочноепроизводство. – М.: Машиностроение, 2004 г., №10,с. 30-34.(EI收录) Zhang Bao-jing, Niu Li-ping, Zhang Ting-an, Li Zhiqiang, Zhang Dongliang, Zheng Chao. Alternative reduction of copper matte in reduction process of copper slag[J],ISIJ International,2017,57(5):775-781 Zhang Baojing, Zhang Ting’an, Niu Li-ping, Dou Zhi-he, Liu Nansong,Li Zhiqiang,Moderate dilution of copper slag by nature gas[J],online,2017.11.27. Технологическое обеспечение работаспособности машиностроительных деталей с плазменно нанесенными покрытиями на базе снижения уровня остаточных напряжений 2005,М.: Спутник

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