刘洪超 - 河南师范大学

个人简介

学习经历：博士，中国科学院大学光电技术研究所，2015年9月-2018年7月硕士，贵州大学，2012年9月-2015年7月学士，山东理工大学，2008年9月-2012年7月工作经历： 2018年8月至今，河南师范大学物理学院讲师教学工作：主讲《光电技术》、《传感器技术与原理》

研究领域

微纳光学方向，目前主要研究超分辨光刻及其在微纳光学、光电子学中的应用。

近期论文

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1.H. C. Liu, W. J. Kong, Q. G. Zhu, Y. Zheng, K. S. Shen, J. Zhang and H. Lu, “Plasmonic interference lithography by coupling the bulk plasmon polariton mode and the waveguide mode”, Journal of Physics D, 53(13), (2020). 2. H. C. Liu, W. J. Kong, K. P. Liu, C. W. Zhao, W. J. Du, C. T. Wang, L. Liu, P. Gao, M. B. Pu and X. G. Luo, “Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons”, Optics Express, 25(17), (2017). 3. H. C. Liu, Y. F. Luo, W. J. Kong, K. P. Liu, W. J. Du, C. W. Zhao, P. Gao, Z. Y. Zhao, C. T. Wang, M. B. Pu and X. G. Luo, “Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons”, Opt. Mater. Express, 8(2), (2018).