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[1]刘升光,王艳辉,牟宗信,王茂仁,李雪春.拉脱法测液体表面张力系数中的动态演化过程[J],物理实验,2017,37(5):12-15,20
[2]王奇,王艳辉,牟宗信,赵纪军.开展磁控溅射镀膜探索研究性实验课程的尝试[J],物理实验,2017,37(4):34-38
[3]刘升光,王艳辉,牟宗信,李雪春.基于无线WiFi的实验数据实时检查分析系统的开发与实践[J],实验室研究与探索,2017,36(4):127-130
[4]刘升光,牟宗信,王艳辉,秦颖,李雪春.多功能液体表面张力系数测定仪[J],物理实验,2017,37(8):61-61
[5]牟宗信.介质阻挡放电系统的放电和谐振特性[A],第十八届全国等离子体科学技术会议,2017
[6]公发全,李刚,谭艳楠,张敏,周徐阳,牟宗信,刘万发,董闯.铝薄膜结构第一镜氢离子溅射特性研究[J],真空科学与技术学报,2015,35(8):984-988
[7]牟宗信,董闯.Impact of hydrogen plasma etchingon surface of highly reflective mirror for optical diagnosis international thermonuclear experimental reactor[J],Journal of Vacuum Science and Technology,2015,35(8):984-988
[8]赵凯,牟宗信,张家良.同轴介质阻挡放电发生器介质层等效电容和负载特性研究[J],物理学报,2014,63(18):185208-1-185208-8
[9]丁安邦,王海文,牟宗信.氧分压影响中频磁控溅射沉积SiO2薄膜光学性能研究[J],真空,2014,51(4):53-57
[10]张延松,牟宗信,吴敏,丁昂,牟晓东,钱坤明.中频磁控溅射制备锰铜传感器用合金薄膜的工艺[J],稀有金属,2014,38(3):427-431
[11]刘升光,牟宗信,秦颖.利用X射线拍摄劳厄斑研究LiF单晶体的内部结构[J],大学物理实验,2013,26(26):1-3
[12]臧海蓉,牟宗信,丁安邦,林曲,陈宝清.中频磁控溅射技术制备Co-Ni合金薄膜[J],真空科学与技术学报,2012,32(7):622-625
[13]牟宗信,臧海蓉,刘冰冰,林曲,丁安邦,王春,董闯.AZ31镁合金基材非平衡磁控溅射镀膜工艺研究[J],真空科学与技术学报,2012,32(1):6-10
[14]牟宗信.AZ31 镁合金基材非平衡磁控溅射镀膜工艺研究[J],真 空 科 学 与 技 术 学 报,2012,32(1):6-10
[15]牟宗信,牟晓东,王春,贾莉,董闯.直流电源耦合高功率脉冲非平衡磁控溅射电离特性[J],物理学报,2011,60(1):422-428
[16]牟宗信.中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)[J],材料科学与工程学报,Vol. 29, No.3,2011, 311-326,2011,29(3):311-326
[17]牟宗信.Studies of the composition and properties of silicon nitride thin films deposited by mid-frequency dual-target unbalanced magnetron sputtering[J],材料科学与工程学报,2011
[18]王春,牟宗信,刘冰冰,臧海荣,牟晓东.中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能[J],材料科学与工程学报,2011,29(3):331
[19]牟宗信,王春,贾莉,牟晓东,藏海荣,刘冰冰,董闯.高功率脉冲非平衡磁控溅射放电特性和参数研究[J],核聚变与等离子体物理,2010,30(4):365-369
[20]牟晓东,牟宗信,王春,臧海荣,刘冰冰,董闯.高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能研究[J],核技术,2010,33(12):951-954
[21]牟宗信,牟晓东,贾莉,王春,董闯.非平衡磁控溅射双势阱静电波动及其共振耦合[J],物理学报,2010,59(10):7164-7169
[22]牟晓东,牟宗信,王春,臧海荣,刘冰冰,董闯.高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能的研究[A],2010全国荷电粒子源、粒子束学术会议,2010,289-293
[23]牟宗信,牟晓东,贾莉,张鹏云,刘升光,董闯.非平衡磁控溅射等离子体频谱特征[J],核聚变与等离子体物理,2010,30(2):169-172
[24]牟宗信.Study of Discharge Properties of High Power Pulsed Unbalanced Magnetron Sputtering[A],15th Asian Conference on Electrical Discharge,2010
[25]牟宗信.Study of Deposition of Aluminum Nitride Thin Films by Hollow Cathode Electron Beam Vapor Deposition Method[J],Materials Science Forum Vols,2010,654:1708-1711
[26]牟宗信.UMS交叉场放电双势阱静电驻波共振诱导反常电子传输[A],中国物理年会,2010
[27]牟宗信.Study of application of high power pulsed unbalanced magnetron sputtering technology for thin film deposition[A],International Conference on Power Beam Processing Technologies (ICPBPT 2010),2010
[28]付伟佳,刘志文,刘明,牟宗信,张庆瑜,关庆丰,陈康敏.离子注入Zn的Si(001)基片热氧化制备纳米ZnO团簇及其生长行为研究[J],物理学报,2009,58(8):5693-5699
[29]牟宗信,王振伟,牟晓东,刘升光.氧化铝薄膜的中频脉冲直流磁控溅射沉积和反应毒化现象分析[A],第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会,2009,1
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