个人简介

1983年毕业于上海机械学院精密仪器工程系，获工学学士学位；1993年毕业于美国威恩大学（Wayne State University）电子与计算机工程系，获电子工程学硕士学位（专业方向：光学计算机技术）；1999年毕业于美国密西根大学（The University of Michigan, Ann Arbor）电子工程与计算机科学系，获电子工程学博士学位（研究方向：应用于液晶显示器的薄膜晶体管（TFT）的先进制造技术）。1983年月至1990年8月供职于陕西省计量测试研究所任助理工程师、工程师；1999年6月至2000年9月供职于美国球面半导体公司（Ball Semiconductor Inc.）任高级器件工程师及研发项目经理；2000年10月至2003年10月供职于美国Chorum技术公司任高级工艺工程师；2004年4月创办宁波思达利光电科技有限公司，任董事长、首席执行官；2008年加入苏州纳米技术与纳米仿生研究所受聘为研究员。

研究领域

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应用于液晶显示器的薄膜晶体管（TFT）的先进制造技术

主要科学贡献： 1. 发展出一套独特的薄膜微结构精确测量技术，使半导体领域中对薄膜结构分析的精度得到极大地提高； 2. 发现了氢化无定形氮化硅（a-SiNx:H）薄膜中偏振相关纵向振动模（longitudinal vibration mode）结构； 3. 发展了薄膜晶体管（TFT）制造中的等离子体辅助化学气相沉积（PECVD）快速成膜技术； 4. 总结出氢原子在氢化无定形氮化硅薄膜中的热稳定性； 5. 总结出氢化无定形氮化硅薄膜厚度对Top-Gate结构的TFT器件的电子特性的影响； 6. 制做出高能量饱和吸收式锁模脉冲掺铒光纤激光器； 7. 发展了MEMs器件制作工艺中的激光打孔技术、及气相腐蚀工艺； 8. 首创定向固态液晶结构及相关器件； 9. 发明了用于TFT-LCD的新型彩色滤光片。