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个人简介

学习与工作经历: 2001年本科毕业于复旦大学物理系,同年因Mini-CUSPEA项目赴纽约大学(New York University)留学,获硕士学位。2006年获复旦大学博士学位,随后于香港科技大学从事访问研究。2013年7月至今任重庆大学“百人计划”研究员。 主要科研项目: 1.国家自然基金“高性能科学计算的基础算法与可计算建模”重大研究计划重点支持项目,“磁流体波传播问题的建模与计算”,参与。 2.国家自然科学基金面上项目,“电磁体系中几何位相及拓扑性质的研究”,主持。 3.国家自然科学青年基金项目,“表面等离激元体系中的狄拉克谱及相关奇异性质的研究”,主持。 4.重庆大学百人计划启动项目,主持。 本实验室同时开展理论和实验工作,热烈欢迎感兴趣的同学报读博士/硕士研究生,也欢迎有科研兴趣的本科生加入。

研究领域

研究方向: 微纳光子结构(micro- and nano- photonic structure),包括表面等离激元(plasmonics)、光子晶体(photonic crystal)、和超构材料(meta-material)以及电磁系统中的拓扑性质和类量子效应(topological and quantum-like effects)。

近期论文

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主要学术论文: 1. Hong Xiang, Lixin Ge, Liang Liu, Tianshu Jiang, Z. Q. Zhang, C. T. Chan*, andDezhuan Han*,A minimal discrete model for toroidal moments and its experimental realization, Physical Review B 95, 045403 (2017). 2. Lixin Ge, Liang Liu, Meng Xiao, Guiqiang Du, Lei Shi,Dezhuan Han*, C. T. Chan, Jian Zi*,Topological phase transition and interface states in hybrid plasmonic-photonic systems, Journal of Optics (Paper of the Week), 19(6), 06LT02 (2017). 3. Yan Meng, Hong Xiang, Ruo-Yang Zhang, Xiaoxiao Wu,Dezhuan Han*, C. T. Chan, and Weijia Wen,Topological interface states in multiscale spoof-insulator-spoof waveguides, Optics Letters (Editors’ Pick), 41, 3698 (2016). 4. Lixin Ge, Li Wang, Meng Xiao, Weijia Wen, C. T. Chan, andDezhuan Han*,Topological edge modes in multilayer graphene systems, Optics Express 23, 21585 (2015). 5. Lixin Ge, Tianrong Zhan,Dezhuan Han*, Xiaohan Liu, Jian Zi*,Determination of the quantized topological magneto-electric effect in topological insulators from Rayleigh scattering, Scientific Reports 5, 7948 (2015). 6. Xindi Yu, Lei Shi,Dezhuan Han, Jian Zi, and Paul V. Braun,High Quality Factor Metallodielectric Hybrid Plasmonic-Photonic Crystals, Adv. Funct. Mater. 20, 1910 (2010). 7.Dezhuan Han, Yun Lai, Jian Zi, Zhao-Qing Zhang, and C. T. Chan,Dirac Spectra and Edge States in Honeycomb Plasmonic Lattices, Phys. Rev. Lett. 102, 123904 (2009). 8.Dezhuan Han, Fengqin Wu, Xin Li, Chun Xu, Xiaohan Liu, and Jian Zi,Transmission and absorption of metallic films coated with corrugated dielectric layers, Appl. Phys. Lett. 89, 091104 (2006).

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