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个人简介

个人简介 陕西大荔人,博士,教授,博士生导师。 2000年、2004年在哈尔滨理工大学材料物理与化学专业获学士和硕士学位;2007年获电子科技大学微电子学与固体电子学博士学位。 2007年至2009年在西安电子科技大学做博士后研究,主要与杨银堂教授合作从事宽带隙半导体SiC功率器件设计,期间在台湾国立大学进行学术交流八个月,主要负责应变硅应变量表征技术研究。于2010年1月至2011年1月在香港科技大学作访问研究,从事宽带隙半导体GaN功率器件设计、仿真和工艺研究。 2009年博士后出站以人才引进方式评为副教授,2012年7月破格评为教授,2012年12月聘为博士生导师。 学术论文 先后在《IEEEELECTRONDEVICELETTERS》、《IEEETRANSACTIONSONELECTRONDEVICES》、《Solid-StateElectronics》、《ScienceinChinaSeriesF:InformationSciences》、《ChinesePhysics》、《ChinesePhysicsLetters》、《中国科学》、《半导体学报》等国际国内重要期刊上发表论文40余篇,其中30篇次被SCI、EI检索。 科研团队 团队教师 博士研究生 硕士研究生 邵鸣张迪宇 课程教学 目前本人承担的教学任务: 半导体物理Ⅱ 课件下载示例

研究领域

主要从事: (1)硅基功率器件与集成; (2)宽带隙半导体功率器件; (3)45nm后CMOS关键技术研究。 首次在国际上提出的优化功率器件新技术REBULF已成功应用于横向高压功率器件设计;与合作者提出的SOI高压器件介质场增强ENDILF技术成功解决了高压器件纵向耐压受限问题;最近首次在国际上提出了完全3-DRESURF概念并已被国际同行认可。

近期论文

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2012年: (1)DUANBaoXing&YANGYinTang.BreakdownvoltageanalysisforthenewRESURFAlGaN/GaNHEMTs,SciChinaInfSci,VOL.55(2),2012:473-479.SCI:000299517500022SCIENCECHINA-INFORMATIONSCIENCES (2)BaoxingDuan,YintangYang.NewAl0.25Ga0.75N/GaNHEMTsstructurewiththepartialsilicondoping,Micro&NanoLetter,vol.7(1),2012,pp.9-11.SCI:000300299500003;EI:20120814802093 (3)BaoxingDuanandYintangYang.ADevelopmentSummarizationofthePowerSemiconductorDevicesΠ,IETETechnicalReview,vol.29(1),JAN-FEB2012,pp.36-43.SCI:000301060600003;EI:20121214868209 (4)DuanBao-Xing(段宝兴),YangYin-Tang(杨银堂).BreakdownvoltageanalysisofAl0.25Ga0.75N/GaNhighelectronmobilitytransistorswiththepartialsilicondopinginAlGaNla[ant]yer,ChinesePhysicsB,2012,21(5),PP.057201(1-8).SCI:000303999000084;EI:20122015021430 (5)BaoxingDuanandYintangYang.TheapplicationoftheelectricfieldmodulationandchargeshieldingeffectstotheHighVoltageSiLDMOS,IETETechnicalReview,vol.29(4),Jul-Aug2012,pp.276-281. 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(5)段宝兴,张波,李肇基.功率半导体器件发展概述.2006中国电工技术学会电力电子学会第十届学术年会. (6)黄勇光,段宝兴,罗萍.超薄硅层REBULFLDMOS的工艺仿真和设计.四川省电子学会半导体与集成技术专委会2006年度学术年会论文集.2006,10-13.

学术兼职

国际重要学术期刊《IEEEElectronDeviceLetters》、《Solid-StateElectronics》、《Micro&NanoLetters》、《IEEETransactionsonPowerElectronics》、《IETETechnicalReview》审稿人。 国内期刊《半导体学报》、《微电子期刊》、《北京理工大学学报》审稿人。

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