尹明会 - 中国科学院大学

个人简介

招生专业 080902-电路与系统 080903-微电子学与固体电子学 085400-电子信息招生方向电子系统设计自动化集成电路设计技术奖励信息（1）北京市科学技术奖, 三等奖, 省级, 2018 专利成果（ 1 ）一种增强半导体金属层可靠性的版图生成方法及系统, 2015, 第 1 作者, 专利号: CN201210359731.6 （ 2 ）一种实现冗余金属填充模板的方法及其系统, 2014, 第 1 作者, 专利号: CN201110391549.4 （ 3 ）差分电路及其参数化单元的生成方法及生成系统, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN201510394211.2 （ 4 ）一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法, 2012, 第 3 作者, 专利号: CN201110082471.8 （ 5 ）标准单元库版图设计方法、布局方法及标准单元库, 2015, 第 3 作者, 专利号: CN201210526483.X （ 6 ）标准单元库版图设计规则检查验证方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN201310165223.9 （ 7 ）参数化生成多倍强度驱动单元的方法, 2016, 第 3 作者, 专利号: CN201210456965.2 （ 8 ）对精简标准单元库进行优化的方法, 2013, 第 3 作者, 专利号: CN201110082736.4 （ 9 ）参数化单元的实现方法及由该参数化单元构成的系统, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201110137674.2 （ 10 ）一种标准单元库的创建方法及系统, 2016, 第 1 作者, 专利号: 201610721546.5 （ 11 ）一种工艺设计工具包的测试方法及装置, 2017, 第 1 作者, 专利号: 201710542541 （ 12 ）一种标准单元库全模型的测试方法及系统装置, 2018, 第 1 作者, 专利号: 201810721546.5 （ 13 ）工艺设计工具包开发方法、装置、电子设备及存储介质, 2020, 第 1 作者, 专利号: 202011175714.8 科研项目（ 1 ）碳基集成电路PDK开发和设计仿真自动化, 参与, 省级, 2017-11--2022-12 （ 2 ）国产EDA工具产业链应用推广示范平台, 参与, 省级, 2020-01--2022-12

近期论文

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（1） LOD效应和WPE效应在纳米工艺PDK中的应用, The Apply of LOD Effects and WPE Effect in Nanometer Process PDK, 微电子学与计算机, 2019, 第 3 作者（2）基于 40nm CMOS 工艺的电平转换器的设计及优化, Design and Optimization of the Level Shifter Based on 40nm CMOS Process, 半导体技术, 2015, 第 3 作者（3）低压恒跨导增益提高 CMOS 运算放大器的设计, 低压恒跨导增益提高 CMOS 运算放大器的设计, 半导体技术, 2013, 第 3 作者（4） Design for manufacturability of a VDSM standard cell library, Design for manufacturability of a VDSM standard cell library, 半导体学报, 2012, 第 4 作者（5） A design method for process Desgin Kit based on SMIC 65nm process, A design method for process Desgin Kit based on SMIC 65nm process, 半导体学报, 2010, 第 3 作者（6）一种高速自控预充电灵敏放大器的设计, Design of high-speed high-reliability voltage mode sense amplifier, 微电子学, 2009, 第 3 作者（7） Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Borophosphosilicate Glass Films, Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Borophosphosilicate Glass Films, Japanese Journal of Applied Physics (JJAP), 2008, 第 1 作者（8） Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of BPSG Films, Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of BPSG Films, ISAPS’07, Nikko, 2007, 第 1 作者（9）常压射频冷等离子体刻蚀硅的研究, 常压射频冷等离子体刻蚀硅的研究, 半导体学报, 2007, 第 3 作者