个人简介
招生专业
080300-光学工程
085400-电子信息
招生方向
先进光刻
教育背景
2006-09--2012-07 中国科学院研究生院(中科院电子所) 博士研究生
2001-09--2004-07 中国科学院研究生院(中科院电子所) 硕士研究生
1995-09--1999-07 北京师范大学 本科
工作简历
2013-01~现在, 中国科学院微电子研究所, 副研究员
2006-09~2012-07,中国科学院研究生院(中科院电子所), 博士研究生
2004-07~2013-01,中国科学院电子学研究所, 助理研究员
2001-09~2004-07,中国科学院研究生院(中科院电子所), 硕士研究生
1995-09~1999-07,北京师范大学, 本科
专利成果
( 1 ) 基于OpenVPX架构的测控系统同步控制系统, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN201911211916.0
( 2 ) 用于EUV真空环境中的光电转换电子学装置及光刻机, 2019, 第 1 作者, 专利号: CN201911212670.9
( 3 ) 对准信号数字化同步解调方法及装置, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911212041.6
( 4 ) 用于光刻机调焦调平系统的光电探测器及其使用方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911212045.4
( 5 ) 对焦传感器的校准方法, 2019, 第 3 作者, 专利号: CN201911212027.6
( 6 ) 一种光学硅片检测系统中的对焦控制装置及方法, 2019, 第 4 作者, 专利号: CN201910313182.0
( 7 ) 一种新型光栅尺位移测量装置, 2019, 第 5 作者, 专利号: CN201911133007.X
( 8 ) 晶圆轮廓图的构造方法, 2019, 第 2 作者, 专利号: CN201911211570.4
科研项目
( 1 ) EUV光刻机离轴对焦技术研究与部件开发, 主持, 国家级, 2018-01--2020-12
( 2 ) 14nm 浸没光刻套刻对准关键技术研究, 参与, 国家级, 2018-01--2020-12
近期论文
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(1) Automatic control of LED light source for wafer height leveling in electron beam imaging systems-submit, Proc. SPIE 10819, Optical Metrology and Inspection for Industrial Applications V, 108190O, 2018, 第 2 作者