个人简介
招生方向
高端光刻机技术，光学检测技术
教育背景
2006-09--2011-07 四川大学 工学博士学位
2002-09--2006-07 山东理工大学 理学学士学位
工作简历
2013-07~现在, 中科院上海光学精密机械研究所, 副研究员
2011-07~2013-07,中科院上海光学精密机械研究所, 助理研究员
专利成果
（ 1 ） 一种光刻机光源的优化方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410422502.3
（ 2 ） 光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410088185.6
（ 3 ） 光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法, 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410002627.0
（ 4 ） 并行计算光学条纹图相位提取方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310545345.0
（ 5 ） 极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310534000.5
（ 6 ） 一种光束准直性检测方法 , 发明, 2014, 第 1 作者, 专利号: 201410655245.8
（ 7 ） 极紫外光刻含缺陷掩模衍射谱的快速严格仿真方法, 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410487246.6
（ 8 ） 基于GPU并行计算小波变换的光学条纹图相位提取方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410229216.5
（ 9 ） 光刻机光源与掩模的联合优化方法 , 发明, 2014, 第 2 作者, 专利号: 201410160451.1
（ 10 ） 光刻机照明光源的描述方法, 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410160574.5
（ 11 ） 光刻物镜奇像差原位检测方法 , 发明, 2014, 第 3 作者, 专利号: 201410036241.1
（ 12 ） 基于相位环空间像主成分分析的投影物镜波像差检测方法, 发明, 2013, 第 3 作者, 专利号: 201310139424.1
（ 13 ） 极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法, 发明, 2013, 第 2 作者, 专利号: 201310102557.1
（ 14 ） 三维信息光学加密系统和方法, 发明, 2013, 第 1 作者, 专利号: 201310021379.X
科研项目
（ 1 ） 提高小波变换条纹图像处理技术精度和速度的方法, 主持, 国家级, 2013-01--2015-12
（ 2 ） 极紫外光刻掩模缺陷计算补偿方法, 参与, 国家级, 2015-01--2018-12
（ 3 ） EUVL三维厚掩模衍射成像建模与仿真研究, 主持, 国家级, 2012-01--2015-12
（ 4 ） 基于空间像矢量分析的偏振像差在线检测与像质优化方法, 参与, 国家级, 2013-04--2016-12
（ 5 ） 光刻机光源与掩模联合优化理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12
（ 6 ） 光刻过程中的透镜热效应仿真理论与方法, 主持, 院级, 2015-12--2016-12
参与会议
（1）Optimal shift of pattern shifting for mitigation of mask defects in extreme ultraviolet lithography Sikun Li, Xiangzhao Wang, Xiaolei Liu, et al 2015-06-22
（2）Source Optimization using Particle Swarm Optimization Algorithm in Photolithography Lei Wang, Sikun Li, Xiangzhao Wang, Guanyong Yan, Chaoxing Yang 2015-02-22
（3）A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask Sikun Li, Xiangzhao Wang , JishuoYang, Feng Tang, Guanyong Yan, Andreas Erdmann 2014-02-23
（4）Source representation for SMO using genetic algorithm Xiangzhao Wang, Sikun Li, C. Yang, G. Yan 2013-09-26
（5）Research on in situ aberration measurement of lithographic projection lenses Xiangzhao Wang, Sikun Li, L. Duan, J. Yang, and G. Yan 2012-09-20
近期论文
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（1） Radial period extraction method employing frequency measurement for quantitative collimation testing, Optics Communications, 2016, 第 1 作者
（2） Wavefront aberration measurement method for a hyper-NA lithographic projection lens based on principal component analysis of an aerial image, Applied Optics, 2016, 第 3 作者
（3） General analytical expressions for the impact of polarization aberration on lithographic imaging under linearly polarized illumination, Journal of the Optical Society of America A, 2016, 第 3 作者
（4） Source optimization using particle swarm optimization algorithm in photolithography, Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII, 2015, 第 2 作者
（5） Analytical analysis for impact of polarization aberration of projection lens on lithographic imaging quality, Proc. SPIE. 9426, Optical Microlithography XXVIII, 2015, 第 2 作者
（6） A defocus measurement method for an in situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask, Proc. SPIE. 9052, Optical Microlithography XXVII, 2014, 第 1 作者
（7） Aberration measurement technique based on an analytical linear model of a through-focus aerial image, Optics Express, 2014, 第 3 作者
（8） Aberration measurement based on principal component analysis of aerial images of optimized marks, Optics Communications, 2014, 第 3 作者
（9） In situ aberration measurement method using a phase-shift ring mask , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 1 作者
（10） Efficient source mask optimization using multipole source representation , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 2 作者
（11） Fast model for mask spectrum simulation and analysis of mask shadowing effects in extreme ultraviolet lithography , J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS, 2014, 第 3 作者
（12） Three-dimensional information security combined fringe projection with double random phase encoding, Optics Communications, 2013, 第 1 作者
（13） Robust pixel-based source and mask optimization for inverse lithography, Optics and Laser Technology, 2013, 第 1 作者
（14） Adaptive denoising method to improve aberration measurement performance, Optics Communications , 2013, 第 3 作者
（15） Defect parameters retrieval based on optical projection images, Proc. SPIE. 8789, Modeling Aspects in Optical Metrology IV, 2013, 第 2 作者
（16） Analytical approach to the impact of polarization aberration on lithographic imaging, Optics Letters, 2012, 第 3 作者
（17） Two-dimensional wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping in optical fringe pattern analysis, Applied Optics, 2012, 第 1 作者
（18） Hilbert assisted wavelet transform method of optical fringe pattern phase reconstruction for optical profilometry and interferometry, Optik - International Journal for Light and Electron Optics, 2012, 第 1 作者
（19） A new wavelet transform for reliability-guided phase unwrapping of optical fringe patterns, Optics Communications, 2011, 第 1 作者
学术兼职
2015-03-01-今,国家自然科学基金委项目通信评议人,
京公网安备 11010802027423号