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通过原子层沉积获得的织构 Sc2O3 薄膜的光学性质和电荷传输
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2019-06-01 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2019.01.288
M.S. Lebedev , V.N. Kruchinin , M.Yu. Afonin , I.V. Korolkov , A.A. Saraev , A.A. Gismatulin , V.A. Gritsenko

摘要 使用三(甲基环戊二烯基)钪 (III) Sc(MeCp)3 和水蒸气作为前驱体,在 200-400 °C 的反应器温度范围内,通过原子层沉积 (ALD) 沉积厚度为 d = 20-100 nm 的氧化钪薄膜. 在 230–370 °C 的范围内检测到 ALD 窗口。每个周期的生长保持不变,在这个范围内为 0.080-0.084 nm/周期。发现 O/Sc 比率为 1.49,接近化学计量的 Sc2O3。薄膜是多晶的。对于在较高温度下生长的薄膜,晶粒更明显。晶粒尺寸随厚度增加。立方 Sc2O3 相由 FTIR、拉曼光谱和 X 射线衍射确定。一般来说,不同的结晶方向对不同的工艺条件更有利。薄膜有纹理,它们的生长主要发生在(400)方向。柯西模型很好地描述了沉积膜的折射率色散。光学特性与工艺参数(温度或厚度)的相关性很弱。正如检测到的厚度接近的薄膜一样,折射率随着沉积温度的升高而略微增加。Nasyrov-Gritsenko (NG) 多声子陷阱电离模型很好地描述了电荷传输。陷阱参数确定为:浓度 N = 1.5 × 1019 cm-3,热能 Wt = 0.83 eV,光能 Wopt = 1.66 eV。正如检测到的厚度接近的薄膜一样,折射率随着沉积温度的升高而略微增加。Nasyrov-Gritsenko (NG) 多声子陷阱电离模型很好地描述了电荷传输。陷阱参数确定为:浓度 N = 1.5 × 1019 cm-3,热能 Wt = 0.83 eV,光能 Wopt = 1.66 eV。正如检测到的厚度接近的薄膜一样,折射率随着沉积温度的升高而略微增加。Nasyrov-Gritsenko (NG) 多声子陷阱电离模型很好地描述了电荷传输。陷阱参数确定为:浓度 N = 1.5 × 1019 cm-3,热能 Wt = 0.83 eV,光能 Wopt = 1.66 eV。



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更新日期:2019-06-01
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