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高品质因数的纳米FTO / Ag / FTO多层透明电极的制备与研究。
Scientific Reports ( IF 3.8 ) Pub Date : 2016-Feb-02 , DOI: 10.1038/srep20399 Shihui Yu , Lingxia Li , Xiaosong Lyu , Weifeng Zhang
Scientific Reports ( IF 3.8 ) Pub Date : 2016-Feb-02 , DOI: 10.1038/srep20399 Shihui Yu , Lingxia Li , Xiaosong Lyu , Weifeng Zhang
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为了提高单层纳米厚度F掺杂SnO2（FTO）薄膜的电导率，在FTO层之间嵌入了Ag中间层。在我们的工作中，研究了中层Ag和顶层FTO层对在100°C磁控溅射沉积在石英玻璃基板上的FTO / Ag / FTO多层复合结构的结构，电学和光学性质的影响。随着Ag中间层的厚度增加，电阻率降低。随着顶层FTO层厚度的增加，电阻率也会增加。FTO（20 nm）/ Ag（7 nm）/ FTO（30 nm）多层膜的品质因数φTC的最大值为7.8×10（-2）Ω（-1），而平均光学透射率为95.5％在可见光波长范围内的电阻率是8.8×10（-5）Ω·cm。此外，
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更新日期：2016-02-04
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