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低温原子层沉积法在聚多巴胺修饰的纳米多孔聚偏二氟乙烯衬底上二氧化钛成核和生长的阐明
ACS Omega ( IF 3.7 ) Pub Date : 2018-09-05 00:00:00 , DOI: 10.1021/acsomega.8b00864
Audra DeStefano , Jiashi Yin , Theodore J. Kraus , Bruce A. Parkinson , Katie Dongmei Li-Oakey

结合聚多巴胺(PDA)和纳米颗粒的界面已被广泛用于制造混合胶体颗粒,薄膜和膜,其应用范围涵盖生物传感,药物输送,重金属检测,防污膜和锂离子电池。然而,对PDA与纳米颗粒之间相互作用的基本理解仍然是有限的,尤其是PDA对纳米颗粒成核和生长的影响。在这项工作中,PDA用于生成功能性结合位点,以沉积二氧化钛(TiO 2通过原子层沉积(ALD)到纳米多孔聚合物基材上进行一定范围的ALD循环(<100)。使用水接触角,扫描电子显微镜,原子力显微镜,氮吸附和解吸以及X射线光电子能谱(XPS)对所得的杂化膜进行系统地表征。在ALD循环次数和表面性质(水接触角和表面粗糙度)的变化之间观察到了一种有趣的非线性关系。与XPS研究一起,利用这些表面特性的变化来探测纳米颗粒在复杂的PDA涂层多孔聚合物基材上的成核和生长过程。对无机和聚合物材料界面的分子水平的了解将为微调纳米粒子改性的聚合物膜材料提供启示。



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更新日期:2018-09-05
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