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高质量还原氧化石墨烯的环境条件生产
Advanced Materials Interfaces ( IF 4.3 ) Pub Date : 2018-06-19 , DOI: 10.1002/admi.201800737
Stanislav A. Evlashin 1 , Sergey E. Svyakhovskiy 2 , Fedor S. Fedorov 3 , Yuri A. Mankelevich 4 , Pavel V. Dyakonov 4 , Nikita V. Minaev 5 , Sarkis A. Dagesyan 2 , Konstantin I. Maslakov 6 , Roman A. Khmelnitsky 7 , Nikolay V. Suetin 4 , Iskander S. Akhatov 1 , Albert G. Nasibulin 3, 8
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还原氧化石墨烯(GO)成为在各种光学,电子和传感器设备中应用的最受欢迎的材料之一。尽管已经报道了许多减少氧化石墨烯合成的方法,但它们通常会带来与效率,质量和环境影响有关的问题。这项工作演示了一种使用纳秒红外激光辐射在环境条件下还原氧化石墨烯的简单,环保且有效的方法。结果,拉曼能带强度比为IG)/ ID用约90 nm的平均微晶尺寸可以达到4.59的)。该石墨烯的质量高于大多数现有方法所能达到的质量。此外,已证明的还原技术可以选择性还原氧化石墨烯并控制材料表面官能团的数量。根据提出的技术制造的气体传感器以低至10 ppm的灵敏度有效地检测NO 2,NH 3和H 2 S。



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更新日期:2018-06-19
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