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铁电HfO2薄膜退火的影响：原位高温X射线衍射
Advanced Electronic Materials ( IF 5.3 ) Pub Date : 2018-05-16 , DOI: 10.1002/aelm.201800091
Min Hyuk Park 1 , Ching-Chang Chung 2 , Tony Schenk 1 , Claudia Richter 1 , Karl Opsomer 3 , Christophe Detavernier 4 , Christoph Adelmann 3 , Jacob L. Jones 2 , Thomas Mikolajick 1, 5 , Uwe Schroeder 1
Advanced Electronic Materials ( IF 5.3 ) Pub Date : 2018-05-16 , DOI: 10.1002/aelm.201800091
Min Hyuk Park 1 , Ching-Chang Chung 2 , Tony Schenk 1 , Claudia Richter 1 , Karl Opsomer 3 , Christophe Detavernier 4 , Christoph Adelmann 3 , Jacob L. Jones 2 , Thomas Mikolajick 1, 5 , Uwe Schroeder 1
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萤石氧化物中的铁电，由于其在半导体以及能源设备中的多种应用具有令人鼓舞的特性而受到越来越多的关注。现在认为，意外铁电的结构起源是形成具有Pca 2 1的空间群的非中心对称的正交相。然而，驱动铁电相形成的因素仍在争论中。在这项研究中，要了解退火温度的影响，掺杂HfO 2的结晶过程使用原位高温X射线衍射分析薄膜。可以从X射线衍射分析中直接观察到多相体系中相分数的变化以及退火过程中晶胞体积的增加，这些观察结果为理解退火温度对结构和电性能的影响提供了信息。从该结果可以确认结构与电性能之间的强耦合。
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更新日期：2018-05-16
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