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聚(苯乙烯-嵌段-丙烯酸)二嵌段共聚物改性磁铁矿纳米复合材料的合成与表征,用于高效去除青霉素G
Composites Part B: Engineering ( IF 12.7 ) Pub Date : 2019-11-29 , DOI: 10.1016/j.compositesb.2019.107643 Aliyeh Ghamkhari , Leili Mohamadi , Sahar Kazemzadeh , Muhammad Nadeem Zafar , Abbas Rahdar , Razieh Khaksefidi
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更新日期:2019-12-11
Composites Part B: Engineering ( IF 12.7 ) Pub Date : 2019-11-29 , DOI: 10.1016/j.compositesb.2019.107643 Aliyeh Ghamkhari , Leili Mohamadi , Sahar Kazemzadeh , Muhammad Nadeem Zafar , Abbas Rahdar , Razieh Khaksefidi
pH响应型聚苯乙烯嵌段丙烯酸(poly(St- b -AA))二嵌段共聚物改性的Fe 3 O 4磁铁矿纳米复合材料的通用合成(poly(St- b -AA)@Fe 3 O 4)进行药物去除应用。为了这个目的,该二嵌段共聚物的聚(步步骤骤b -AA)经由可逆加成断裂链转移(RAFT)聚合技术合成。将该合成的具有–COOH基团的共聚物吸附到Fe 3 O 4的表面上,生成聚(St- b -AA)@Fe 3 O 4。纳米复合材料,然后将其用作吸附剂去除青霉素G。通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)和1证实了聚苯乙烯均聚物聚(St-)(宏-RAFT剂)和聚(St- b -AA)二嵌段共聚物的合成。1 H核磁共振(1 HNMR)。通过场发射扫描电子显微镜(FESEM),X射线衍射(XRD),热重分析(TGA),FTIR和动态光散射(DLS)分析对聚(St b -AA)@Fe 3 O 4纳米复合材料进行表征。 。该聚后(步步骤骤b -AA)@Fe 3 Ô 4用该溶液从水溶液中除去青霉素G(抗生素)。结果表明,最大去除青霉素G的最佳条件是pH 11,青霉素初始浓度50 mg / L,聚(St- b -AA)@Fe 3 O 4剂量0.5 g / L和接触时间50分钟。在这种条件下,青霉素G的去除率为99.99%。基于所获得的结果,可以发现,聚(步步骤骤b -AA)@Fe 3 ø 4吸附剂可以被用作有效的吸附剂用于从水溶液中除去青霉素G。
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