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通过亚微米图案化的ITO电极的超柔韧性
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2018-03-06 00:00:00 , DOI: 10.1021/acsami.7b19098 Qian Dong , Yukihiro Hara , Kristina T. Vrouwenvelder , Kai T. Shin , Jared A. Compiano , Mohtashim Saif 1 , Rene Lopez
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2018-03-06 00:00:00 , DOI: 10.1021/acsami.7b19098 Qian Dong , Yukihiro Hara , Kristina T. Vrouwenvelder , Kai T. Shin , Jared A. Compiano , Mohtashim Saif 1 , Rene Lopez
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铟锡氧化物（ITO）具有固有的脆性，是光电器件中透明导电电极的首选。在这里，我们报道了一种光栅状结构的制造，该结构消除了ITO的机械限制，同时保留了其电阻率和光学质量。ITO纳米图案膜的电阻率<1.3×10 –3Ωcm，超过了以前报道的所有柔性ITO值，在整个可见光谱范围内的正常透射率均大于90％。我们证明了纳米图案化的ITO在热敏基底上保持了非凡的柔韧性和耐用性，可在50多次压缩和解压弯曲的循环中适应曲率直径至少为3.2 mm的循环弯曲，而不会显着降低其电阻率或光学性能。此外，二维外推表明，在保持机械柔韧性，耐用性和光学透明性的同时，多轴弯曲也是可行的。
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更新日期：2018-03-06
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