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功函数的光学操纵在金属薄膜上形成对比。
Science Advances ( IF 11.7 ) Pub Date : 2018-Mar-01 , DOI: 10.1126/sciadv.aao6050
Sai Kishore Ravi 1 , Wanxin Sun 2 , Dilip Krishna Nandakumar 1 , Yaoxin Zhang 1 , Swee Ching Tan 1
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功函数是每个光电器件中确保特定电荷传输方案的关键指标。但是,在给定的功函数范围内可用的稳定导电材料的数量很少,因此必须进行功函数调制。与以前所有的功函数调制化学方法不同,我们在这里介绍一种涉及光调制的替代方法。功函数是将电子从固体中发射到真空中所需的最小能量,并且已知与光强度无关。在涂覆在半导体上的金属薄膜中观察到功函数的“光强度依赖性”变化。通过与三个不同的系统,即Au / n-Si,Pt / n-Si和W / n-Si,对这种新现象与现有的功函数概念进行了对比,并对其进行了确认。2。现在只需将光强与手握的几种离散金属一起调节,就可以将功函数连续调节至指定范围。此外,选择性照明会在金属膜上产生功函数对比,从而实现面内电荷传输。这为光电子器件的设计和理解提供了新的思路。有鉴于此,我们还提出了一种对照明方向敏感的简单光电探测器设计。



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更新日期:2018-03-06
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