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用于增强上转换光致发光的外延 KNbO3:Yb3+,Er3+ 纳米图案
Journal of Alloys and Compounds ( IF 5.8 ) Pub Date : 2020-01-01 , DOI: 10.1016/j.jallcom.2019.152238
Heeyeon Park , Kyu-Tae Lee , Soon-Hong Kwon , In Hwan Ahn , Byunghoon Kim , Doo-Hyun Ko , Woong Kim
Journal of Alloys and Compounds ( IF 5.8 ) Pub Date : 2020-01-01 , DOI: 10.1016/j.jallcom.2019.152238
Heeyeon Park , Kyu-Tae Lee , Soon-Hong Kwon , In Hwan Ahn , Byunghoon Kim , Doo-Hyun Ko , Woong Kim
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摘要 上转换 (UC) 材料的纳米图案外延薄膜适用于各种应用，例如显示照明、波导和光学成像。在这项研究中，我们证明了可以通过结合溶胶-凝胶工艺和纳米压印光刻来制造 UC 材料的纳米图案外延膜。在晶格匹配的 SrTiO3 单晶衬底上生长外延 KNbO3:Yb3+,Er3+ 薄膜，与在其上生长的非外延 KNbO3:Yb3+,Er3+ 薄膜相比，其 UC 光致发光 (PL) 强度提高了大约 70 倍。 Si衬底。此外，与具有相同材料体积的平面膜相比，纳米图案的引入将 UCPL 强度提高了约 20 倍。我们的研究为更好地理解和扩展 UC 材料的应用铺平了道路。
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更新日期：2020-01-01
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