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通过热纳米压印制备聚合物分子平坦的基底，并通过AFM观察沉积在其上的聚合物链
Macromolecules ( IF 5.1 ) Pub Date : 2019-08-22 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.macromol.9b01280
Ryota Umetsu 1 , Jiro Kumaki 1
Macromolecules ( IF 5.1 ) Pub Date : 2019-08-22 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.macromol.9b01280
Ryota Umetsu 1 , Jiro Kumaki 1
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据信聚合物的表面具有高迁移率，并且它们的玻璃化转变温度从体积值显着降低。在这项研究中，我们通过用原子阶梯式蓝宝石衬底热纳米压印PMMA板，制备了分子平坦的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）衬底。压印的PMMA表面的台阶高度约为。0.2 nm在室温下的空气中可稳定保存数月，即使将其浸入水中10 h也能保留下来。通过原子力显微镜在分子水平上观察到通过Langmuir-Blodgett技术在压印的PMMA基底上沉积的PMMA链和全同立构PMMA晶体单分子层，并且在室温下，该分子的结构在空气中可保持稳定数月。压印的PMMA基材表面和沉积的单分子层的这些显着稳定性是出乎意料的，并且与基于我们目前对聚合物表面的理解所预期的结果有所不同。结果表明，热压聚合物表面的性质可能与先前研究的溶剂浇铸聚合物表面的性质不同。
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更新日期：2019-08-22
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