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化学气相沉积生长的二维超薄氮化钨晶体的弹性特性
Advanced Functional Materials ( IF 18.5 ) Pub Date : 2019-06-13 , DOI: 10.1002/adfm.201902663
Hong Wang 1 , Emil J. Sandoz‐Rosado 2 , Siu Hon Tsang 3 , Jinjun Lin 1 , Minmin Zhu 1 , Govind Mallick 2 , Zheng Liu 4 , Edwin Hang Tong Teo 1
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3D过渡金属氮化物以其良好的导电性,优异的机械性能和高化学稳定性而广为人知。近来,已经成功地以纳米片的形式制备了二维过渡金属氮化物,并显示了在能量存储中的潜在应用。但是,仍需要合成高结晶度和形状良好的2D氮化物层来研究其固有物理性质。本文报道了SiO 2上超薄氮化钨晶体的生长/ Si基板采用盐辅助化学气相沉积法。高分辨率透射显微镜确认所生长的样品为高度结晶的WN。超薄WN的刚度是通过基于原子力显微镜的纳米压痕法研究的,该压痕法将薄膜悬浮在圆孔上。几层(4.5 nm厚或更厚)WN的3D杨氏模量确定为3.9×10 2 ±1.6×10 2 GPa,与石墨烯和六方氮化硼除外的2D系列中最佳实验报道值相当。本文介绍的合成方法提供了生产和利用其他高度结晶的2D过渡金属氮化物晶体的可能性。



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更新日期:2019-06-13
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