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MoS2，MoSe2，WS2和WSe2的1L，2L和3L厚度依赖性折射率
Advanced Optical Materials ( IF 8.0 ) Pub Date : 2019-05-06 , DOI: 10.1002/adom.201900239
Chunwei Hsu 1, 2 , Riccardo Frisenda 1 , Robert Schmidt 3 , Ashish Arora 3 , Steffen Michaelis Vasconcellos 3 , Rudolf Bratschitsch 3 , Herre S. J. der Zant 2 , Andres Castellanos‐Gomez 1
Advanced Optical Materials ( IF 8.0 ) Pub Date : 2019-05-06 , DOI: 10.1002/adom.201900239
Chunwei Hsu 1, 2 , Riccardo Frisenda 1 , Robert Schmidt 3 , Ashish Arora 3 , Steffen Michaelis Vasconcellos 3 , Rudolf Bratschitsch 3 , Herre S. J. der Zant 2 , Andres Castellanos‐Gomez 1
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2D材料的一个有趣的方面是其电子结构随厚度的减小而变化。钼和钨基过渡金属二硫化碳形成了重要的二维材料族，其成员显示出与厚度有关的带隙和强烈的光-物质相互作用。在这项工作中，实验确定了1、2、3层厚的MoS 2，MoSe 2，WS 2和WSe 2的复折射率通过使用微反射光谱法，并结合基于菲涅耳方程的计算，报告了在400至850 nm范围内的电磁光谱。它进一步提供了与文献中报道的整体折射率值的比较，并讨论了我们的工作与文献中可获得的单层折射率之间的差异/相似性，发现来自不同技术的结果非常吻合。
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更新日期：2019-05-06
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