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基于氢氟酸的蚀刻对熔融石英光学元件的表面凹坑,裂纹,划痕和激光损伤部位的影响
Optics Express ( IF 3.2 ) Pub Date : 2019-04-03 , DOI: 10.1364/oe.27.010705
Taixiang Liu , Ke Yang , Zhuo Zhang , Lianghong Yan , Beicong Huang , Heyang Li , Chuanchao Zhang , Xiaodong Jiang , Hongwei Yan

在大型,高功率激光设备中,熔融石英光学器件在传输超强激光方面扮演着不可替代的角色。但是,熔融石英光学器件的表面破裂(例如表面凹坑,裂纹,划痕和激光损坏部位)将缩短光学器件的使用寿命,从而限制了激光设备的输出性能。在这项工作中,除了进行实验研究之外,还进行了时差有限差分(FDTD)模拟,以研究基于氢氟酸(HF)的刻蚀对表面裂缝的影响。讨论了局部表面曲率对刻蚀速率的影响,并提出了一个明确的局部曲率相关刻蚀模型。在此模型的基础上,FDTD仿真的结果与实验结果在质量上非常吻合。结果表明,FDTD模拟可以有效地预测蚀刻过程中表面裂缝的形貌演变。此外,已发现表面裂纹将被钝化,并且基于HF的蚀刻可大大抑制激光对熔融石英光学元件表面部位造成的损伤的激光损伤生长。



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更新日期:2019-04-16
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