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晶圆级二硫化铂的制备策略
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2019-02-07 00:00:00 , DOI: 10.1021/acsami.8b19218 Hongjun Xu,Hsin-Pan Huang,HaiFeng Fei,Jiafeng Feng,Huei-Ru Fuh,Jiung Cho,Miri Choi,Yanhui Chen,Lei Zhang,Dengyun Chen,Duan Zhang,Cormac Ó Coileáin,Xiufeng Han,Ching-Ray Chang,Han-Chun Wu
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2019-02-07 00:00:00 , DOI: 10.1021/acsami.8b19218 Hongjun Xu,Hsin-Pan Huang,HaiFeng Fei,Jiafeng Feng,Huei-Ru Fuh,Jiung Cho,Miri Choi,Yanhui Chen,Lei Zhang,Dengyun Chen,Duan Zhang,Cormac Ó Coileáin,Xiufeng Han,Ching-Ray Chang,Han-Chun Wu
PtS 2是一种新开发的10组2D层状材料,具有高载流子迁移率,宽带隙可调谐性,强束缚激子,对称的金属和磁性边缘态以及环境稳定性,使其在纳米电子,光电和自旋电子学领域具有吸引力。为了应用的目的,大规模合成是必要的。对于过渡金属二硫化氢(TMD)化合物,热辅助转换方法已被广泛用于制造晶圆级薄膜。然而,由于四方PtS相更稳定,因此使用该方法不能容易地合成PtS 2。在这里,我们使用指定的石英部件来局部增加化学气相沉积炉中硫的蒸气压,并成功地将此方法扩展为PtS的合成2片薄膜,具有可缩放和可控制的方式。而且,PtS和PtS 2相可以通过提出的策略互换转换。场效应晶体管的表征和光电流测量表明,PtS 2是具有窄带隙的双极性半导体。此外,PtS 2还显示出优异的气敏性能,对NO 2的检测极限为〜0.4 ppb 。我们的工作提出了一种合成PtS 2薄膜的相对简单的方法,并以可扩展的方式展示了它们对高性能超灵敏气体传感,宽带光电和纳米电子学的承诺。此外,建议的策略适用于制作其他PtX 2 与现代硅技术兼容的化合物和TMD。
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更新日期:2019-02-07
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