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有机抗冰剂
Nano Letters ( IF 9.6 ) Pub Date : 2017-11-28 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.nanolett.7b04190
William Tiddi 1 , Anna Elsukova 1 , Hoa Thanh Le 1 , Pei Liu 1 , Marco Beleggia 1 , Anpan Han 1
Nano Letters ( IF 9.6 ) Pub Date : 2017-11-28 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.nanolett.7b04190
William Tiddi 1 , Anna Elsukova 1 , Hoa Thanh Le 1 , Pei Liu 1 , Marco Beleggia 1 , Anpan Han 1
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电子束光刻（EBL）是构图纳米结构和制造纳米器件的基础技术。它涉及分几个步骤来处理和处理合成树脂，每个步骤都需要在无尘室环境中进行优化和专用仪器。在这里，我们表明，在低温下冷凝形成薄膜的简单有机分子（例如醇）表现出了类似的抗蚀剂能力，适用于EBL应用及其他领域。整个光刻过程在一台仪器中进行，避免了使用户接触化学药品和无尘室的需要。与EBL要求具有光学表面平坦的大样本的EBL不同，我们仅在5 nm薄且2×2 mm 2的易碎膜上构图钻石样品。我们通过堆叠冷冻的有机分子层，在纳米级到亚毫米级以及三维结构上创建了图案。最终，使用等离子蚀刻，有机抗冰（OIR）图案用于构造基础材料，从而实现纳米器件的制造。
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更新日期：2017-11-28
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