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二硒化铌的纳米级相工程
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2017-11-20 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.chemmater.7b03061
Felix Bischoff 1 , Willi Auwärter 1 , Johannes V. Barth 1 , Agustin Schiffrin 2, 3, 4 , Michael Fuhrer 2, 3, 4 , Bent Weber 2, 3, 4, 5
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随着半导体微电子学的不断小型化,原子薄材料正在成为未来超大规模电子学的有前途的候选材料。尤其是,层状过渡金属二硫化碳(TMDs)由于其电子性能的多样性而受到了广泛的关注,这取决于过渡金属的类型及其在晶体中的配位。在这里,我们使用低温扫描隧道显微镜(STM)对V TMD二硒化铌(NbSe 2)。通过施加带有STM尖端的电压脉冲,我们可以将材料的晶体相局部地从三棱柱形(2H)转换为八面体(1T),这伴随着特征(√13×√13)R13.9°电荷的出现而得到证实。密度波(CDW)阶。在77 K处,具有亚晶格细节的结的原子分辨率STM图像证实了材料的成功相工程化,因为我们解决了顶部Se平面滑移所证明的Nb配位差异。不同的1T-CDW强度表明在1T-NbSe 2中存在层间相互作用。此外,明显的电压依赖性表明,复杂的CDW机制不像其他1T-TMD那样仅依赖于大卫之星的重建。此外,偏压脉冲会引起表面改性,从而引起局部晶格应变,从而对2H-NbSe 2在4.5 K时的固有3×3 CDW有利于一维电荷顺序,而STM可逆地对其进行操纵。



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更新日期:2017-11-21
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