当前位置:
X-MOL 学术
›
Org. Process Res. Dev.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
反溶剂结晶过程中微米级水杨酸晶体的尺寸和形状控制
Organic Process Research & Development ( IF 3.1 ) Pub Date : 2017-10-31 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.oprd.7b00181 Teresa B. Tierney 1 , Åke C. Rasmuson 1 , Sarah P. Hudson 1
Organic Process Research & Development ( IF 3.1 ) Pub Date : 2017-10-31 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.oprd.7b00181 Teresa B. Tierney 1 , Åke C. Rasmuson 1 , Sarah P. Hudson 1
Affiliation
在反溶剂结晶过程中,在特定的结晶条件下,重点关注药物浓度,温度和溶剂组成,制备了粒径范围为20至150μm的水杨酸微米级晶体。对于每个实验,大小的决定因素都是由多个影响因素(通常是相互竞争的)影响的因素决定的,这些因素包括过饱和度,结晶过程中可沉积的质量以及温度和溶剂组成对结晶动力学的影响。一定比例的晶体,特别是在较高的溶质浓度下,形成了壮观的空心形状,具有几乎完美的矩形外部横截面。提出了中空晶体形成的机理解释。在结晶过程中添加剂的使用进一步控制了水杨酸晶体的尺寸,并且可能更明显地控制了水杨酸晶体的形状。随着HPMC浓度的增加,水杨酸晶体的长度降低至6μm。HPMC和CMC都引起了晶体习性的变化,从方棱镜(对于纯系统)到针状晶体,这是由于这些添加剂的结构能力是通过氢键选择性地附着在晶体的主110面上,并减慢了晶体的生长。那个方向。SDS对尺寸的影响较小,但是由于其附着在001面上,因此可以防止这些面的压痕的发生,从而可以防止中空晶体的形成。随着HPMC浓度的增加,水杨酸晶体的长度降低至6μm。HPMC和CMC都引起了晶体习性的改变,从方棱镜(对于纯系统)到针状晶体,这是由于这些添加剂的结构能力是通过氢键选择性地附着在晶体的主110面上,并减慢了晶体的生长。那个方向。SDS对尺寸的影响较小,但是由于其附着在001面上,因此可以防止这些面的压痕的发生,从而可以防止中空晶体的形成。随着HPMC浓度的增加,水杨酸晶体的长度降低至6μm。HPMC和CMC都引起了晶体习性的改变,从方棱镜(对于纯系统)到针状晶体,这是由于这些添加剂的结构能力是通过氢键选择性地附着在晶体的主110面上,并减慢了晶体的生长。那个方向。SDS对尺寸的影响较小,但是由于其附着在001面上,因此可以防止这些面的压痕的发生,从而可以防止中空晶体的形成。由于这些添加剂具有通过氢键选择性地附着在晶体的主要110面上并在该方向上减慢生长的结构能力。SDS对尺寸的影响较小,但是由于其附着在001面上,因此可以防止这些面的压痕的发生,从而可以防止中空晶体的形成。由于这些添加剂具有通过氢键选择性地附着在晶体的主要110面上并在该方向上减慢生长的结构能力。SDS对尺寸的影响较小,但是由于其附着在001面上,因此可以防止这些面的压痕的发生,从而可以防止中空晶体的形成。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期:2017-11-01
"点击查看英文标题和摘要"