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用常压光电子能谱研究纯镍修饰的CoOOH的水离解和表面羟基稳定性
The Journal of Physical Chemistry B ( IF 2.8 ) Pub Date : 2017-09-19 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.jpcb.7b06960 Zhu Chen 1 , Coleman X. Kronawitter 2 , Iradwikanari Waluyo 3 , Bruce E. Koel 1
The Journal of Physical Chemistry B ( IF 2.8 ) Pub Date : 2017-09-19 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.jpcb.7b06960 Zhu Chen 1 , Coleman X. Kronawitter 2 , Iradwikanari Waluyo 3 , Bruce E. Koel 1
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使用环境压力光发射光谱法（APPES）研究了纯的和Ni修饰的CoOOH纳米线上的水吸附和反应。APPES的独特功能使我们能够首次在升高的压力和温度下观察水的离解并监测纯净和Ni改性的CoOOH上表面物质的形成。在很大的压力范围（UHV至1 Torr）下，水在27°C时易于在纯净和Ni改性的CoOOH表面上解离。随着H 2 O压力的增加，所有样品的表面羟基化程度都更高。在1 Torr H 2 O下，不同氧物种的比率表明CoOOH向CoO x H y的转化在纯镍改性的CoOOH中。在温度依赖性研究中，随着温度的升高，观察到弱结合水的解吸和表面脱羟基。与纯CoOOH相比，在Ni改性的CoOOH上观察到较高百分比的高温表面羟基基团，这表明这些Ni改性表面上的表面羟基基团的稳定性提高。
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更新日期：2017-09-19
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