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Rochow反应中In2O3对CuO的促进作用:异质界面上P–N结的形成
Journal of Catalysis ( IF 6.5 ) Pub Date : 2017-03-25 14:35:58
Yu Zhang, Jing Li, Hezhi Liu, Yongjun Ji, Ziyi Zhong, Fabing Su

在这里,我们报告了有关用于Rochow反应的一系列xIn-CuO模型催化剂的合成的第一项工作,该Rochow反应在界面处形成了P-N键,并且具有不同的In / Cu摩尔比。这些复合材料是通过一锅法水热法制备的,分别使用金属硝酸盐和K 2 CO 3作为前体和沉淀剂。扫描电子显微镜和透射电子显微镜表征表明,在CuO和In 2 O 3之间的异质界面上形成了P–N结,X射线光电子能谱和H 2程序升温还原表明CuO之间有很强的相互作用和In 2 O 3阶段。In 2 O 3的添加增加了Cu核中的电子密度,导致Cu 2+和In 3+分别带负电和带正电。当用于Rochow反应时,催化剂2In–CuO(占CuO的2wt。%In)表现出明显更高的Si转化率和二甲基二氯硅烷((CH 32 SiCl 2,M2)的选择性比CuO高,这归因于可以促进电荷转移的P–N结的形成。另外,对新鲜和废接触物质的详细表征表明,Rochow反应发生在Si表面上,并且可能在超薄二维Cu-Si物种与Cu掺杂沉积物之间的区域中发生。在2 O 3中,促进了Cu *(中间物种)的向外扩散,并提高了Cu *在反应性界面处的扩散速率。这项工作不仅加深了对Rochow反应的基本了解,而且通过添加诸如In 2 O 3的促进剂,为设计更有效的Cu基催化剂提供了一种新方法。 并通过设计接口。



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更新日期:2017-03-26
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