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低温原子层沉积生长的易爆结晶TiO 2薄膜中超大晶粒的界面工程
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2017-03-02 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.chemmater.6b04090 Cheol Jin Cho 1, 2 , Jun-Yun Kang 3 , Woo Chul Lee 1, 2 , Seung-Hyub Baek 1 , Jin-Sang Kim 1 , Cheol Seong Hwang 2 , Seong Keun Kim 1
Chemistry of Materials ( IF 7.2 ) Pub Date : 2017-03-02 00:00:00 , DOI: 10.1021/acs.chemmater.6b04090 Cheol Jin Cho 1, 2 , Jun-Yun Kang 3 , Woo Chul Lee 1, 2 , Seung-Hyub Baek 1 , Jin-Sang Kim 1 , Cheol Seong Hwang 2 , Seong Keun Kim 1
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薄膜的功能性与薄膜的微观结构以及薄膜材料的固有性质都息息相关。微观结构的工程设计，尤其是晶粒尺寸及其在氧化物薄膜中的分布，对于设计针对特定应用的功能至关重要。然而，由于在通常用于这些膜的生长的处理温度下缺乏原子的迁移性，因此氧化物薄膜的微结构的操纵范围通常是相当有限的。这项工作报道了在TiO 2中观察到非常大的晶粒（比薄膜厚度大100倍）的现象。在低温（<250°C）下通过原子层沉积法生长的薄膜。即使没有后沉积退火，在生长的薄膜中也观察到较大的晶粒尺寸，其中使用了具有高表面能的衬底。结论是，在低热预算过程中，基底的表面能工程为控制TiO 2薄膜的晶粒尺寸提供了一种有效的方法。结果将提供即使在低温过程中也可通过控制晶粒尺寸来设计薄膜新颖特性的简便途径。
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更新日期：2017-03-02
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