当前位置：
X-MOL 学术
›
Angew. Chem. Int. Ed.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
空间限制诱导的吡啶和吡咯氮掺杂石墨烯的合成，用于催化氧还原
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.1 ) Pub Date : 2013-09-13 , DOI: 10.1002/anie.201303924 Wei Ding 1 , Zidong Wei 1 , Siguo Chen 1 , Xueqiang Qi 1 , Tao Yang 1 , Jinsong Hu 2 , Dong Wang 2 , Li‐Jun Wan 2 , Shahnaz Fatima Alvi 1 , Li Li 1
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.1 ) Pub Date : 2013-09-13 , DOI: 10.1002/anie.201303924 Wei Ding 1 , Zidong Wei 1 , Siguo Chen 1 , Xueqiang Qi 1 , Tao Yang 1 , Jinsong Hu 2 , Dong Wang 2 , Li‐Jun Wan 2 , Shahnaz Fatima Alvi 1 , Li Li 1
Affiliation
|
强迫服从：层状蒙脱石（MMT）被用作纳米反应器，用于在掺氮石墨烯中生成平面吡啶和吡咯N位（NG；参见图片）。形成平面N位的选择性与MMT的间隙宽度（δ）成反比，最大值达到90.27％。NG催化剂表现出低电阻，高电催化活性和良好的稳定性。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2013-09-13
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号