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Corrigendum to “A revisit from CVD kinetics to CVD reactor: Investigating uniform growth mechanism of polysilicon in a reduction furnace” [Chem. Eng. Sci. 295 (2024) 120162]
Chemical Engineering Science ( IF 4.1 ) Pub Date : 2024-08-14 , DOI: 10.1016/j.ces.2024.120589 Wei Si , Ning Wang , Yuan Zong , Gance Dai , Fanzheng Meng , Zuodong Yang , Ling Zhao , Zhong Xin , Guangjing Jiang
中文翻译：
“从 CVD 动力学到 CVD 反应器的重新审视：研究还原炉中多晶硅的均匀生长机制”的勘误 [Chem.工程师。科学。 295（2024）120162]
更新日期：2024-08-14
Chemical Engineering Science ( IF 4.1 ) Pub Date : 2024-08-14 , DOI: 10.1016/j.ces.2024.120589 Wei Si , Ning Wang , Yuan Zong , Gance Dai , Fanzheng Meng , Zuodong Yang , Ling Zhao , Zhong Xin , Guangjing Jiang
中文翻译：
“从 CVD 动力学到 CVD 反应器的重新审视：研究还原炉中多晶硅的均匀生长机制”的勘误 [Chem.工程师。科学。 295（2024）120162]
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