低温和高温下的分子结构稳定性对于工业应用非常重要。氮化硼基材料，例如六方氮化硼（h-BN）和氮化硼纳米管（BNNT），由于其高抗氧化性和热稳定性而引起人们的兴趣。在本研究中，应用表征技术（例如拉曼光谱、X 射线衍射 (XRD) 和傅里叶变换红外光谱 (FTIR)）来研究 BNNT 和 h-BN 在高温（高达 800 ℃）下的结构变化。 °C）和低温（低至-50 °C）。拉曼光谱结果表明，在高温（800℃）下，h-BN在惰性和氧化条件下均表现出明显的红移，而BNNT则没有出现峰移，表明其与h-BN相比具有更稳定的结构电阻。冷却至低温（-50°C）后，h-BN 和 BNNT 均未表现出峰移。热重分析 (TGA) 和 FTIR 光谱结果揭示了 h-BN 和 BNNT 在 800 °C 高温下的稳定性。 FTIR 结果还表明，在氧化条件下，与 BNNT 相比，加热 h-BN 会形成更多的羟基。 XRD 结果显示，与 BNNT 相比，h-BN 随着温度的升高，2θ 位移的幅度更大。此外，无论样品处于惰性或氧化条件下，h-BN 的 FWHM 值随温度的增加都比 BNNT 更显着。这项研究的表征结果表明，BN 基材料，尤其是 BNNT，是高温化学反应应用的合适候选者。



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