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使用 NiFe2O4/CeO2/GO 纳米复合材料进行四环素光催化降解环境修复的评估:计算机分子对接、抗菌性能、降解途径和 DFT 计算
Separation and Purification Technology ( IF 8.1 ) Pub Date : 2024-05-23 , DOI: 10.1016/j.seppur.2024.128074 Misbah latif , Raziq Nawaz , Muhammad Hammad Aziz , Muhammad Asif , Fatima Noor , Amil Aligayev , Syed Mansoor Ali , Manawwer Alam , Stefanos Papanikolaou , Qing Huang
具有独特结构和物理化学特性的石墨烯纳米结构可能能够有效地光降解抗生素。在此,本研究报告通过将 NiFeO/CeO 锚定到 GO(氧化石墨烯)表面,成功合成了 NiFeO/CeO/GO 纳米复合材料(NC)。所有最先进的表征技术都研究了纳米结构、结晶度、声子模式、化学成分分析、元素成分、表面积、磁性和光学带隙。水热法辅助的 NiFeO/CeO/GO 催化剂表现出更好的载流子分离,并促进四环素 (TC-HCl) 在可见光下的光催化降解。在可见光照射 90 分钟后,NiFeO/CeO/GO 纳米复合材料表现出优异的光催化活性,TC-HCl 降解率为 95%。根据确定的中间体,提出了四环素降解的合理机制,其中 OH 和 发挥主导作用。此外,使用 LC-MS 光谱法确定了四环素光降解中间体和最佳途径。本研究还对制备的材料进行了密度泛函理论(DFT)计算以验证实验数据。体外抗菌研究与 NiFeO/CeO/GO 纳米复合材料针对 DNA 旋转酶和 FabI 的分子对接研究一致。最后,结果揭示了 NiFeO/CeO/GO 纳米复合材料在改善光催化性能方面的新潜力,使其成为一种有前景的废水处理光催化剂。
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