二维过渡金属碳化物和氮化物（MXene）由于其独特的电子特性和能量收集的各种应用而引起了广泛的关注。然而，目前的合成程序涉及通过与含铝 MAX 相反应来使用氟化物基水溶液。此外，无氟、经济有效且简单的合成方法很少有报道，需要探索。在此，首次提出了一种名为“”的无溶剂一步气相干法刻蚀方法，利用卤素的强氧化能力来刻蚀MAX相的不同元素A（Al、Si、Sn等）和卤化氢气体（Cl、Br、I、HCl、HBr 和 HI）。气相蚀刻可以得到MXenes与特定气体诱导官能团偶联的纯产物。同时，MXenes粉末可以直接获得，无需去除蚀刻剂和副产物的过程。此外，具有-Cl官能团的多层MXene（TiCCl）具有很强的抗氧化性和优异的电容倍率性能。它为我们提供了一种智能、经济高效的合成策略，具有高产率且安全，有利于 MXene 的大规模生产。



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