采用动力学和瞬态同位素示踪实验研究了 2 wt% Pt/SiO2 上高 NO 浓度条件下 NO 氧化的反应机理。研究发现反应机理涉及NO吸附和氧吸附，这与低NO浓度下NO从气相发生反应的情况相反。动力学速率数据可以适合 Langmuir-Hinshelwood 模型，从而可以估计基本步骤的速率和平衡常数。使用独立反应气体同位素开关后的瞬态响应来研究这些步骤，以追踪 NO 氧化过程中的氮气路径和氧气路径。这些瞬态可以通过基于两个 NO 中间体池的微动力学模型来充分描述，其中一个池用于吸附分子氧和原子吸附氧。研究发现表面原子氧是通过两种不同的途径形成的：通过分子吸附氧的直接解离，以及通过导致NO形成的辅助途径。吸附的 NO 和吸附的分子氧之间的后者表面反应包括动力学相关步骤。两种实验和模型方法的见解非常一致，并为高 NO 反应物浓度下的 NO 氧化提供了连贯的反应机制。



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